Содержание
Список использованных обозначений ...................................................................... 5
Список использованных сокращений ....................................................................... 6
Введение ....................................................................................................................... 7
1. Обзор литературы.................................................................................................. 14
1.1. Влияние текстуры и микроструктуры поликристаллических пленок Pt и
Ti на свойства электронных приборов ......................................................... 14
1.2. Влияние кристаллической структуры металлов на процессы их ионного
распыления ..................................................................................................... 16
1.3. Кристаллическая текстура металлических пленок..................................... 21
1.4. Ионная бомбардировка пленок металлов, проводимая после их
осаждения. Влияние на микроструктуру и кристаллическую текстуру .. 26
1.5. Низкоэнергетическая ионная бомбардировка поверхности объемных
материалов ...................................................................................................... 36
1.6. Низкоэнергетическая ионная бомбардировка пленок Ti, Co и Pt,
проводимая во время их осаждения ............................................................. 37
1.7. Влияние ионной бомбардировки на удельное сопротивление пленок Pt и
Ti ...................................................................................................................... 41
2. Использованные в работе методы приготовления и анализа образцов ... 45
2.1. Определение среднего размера области когерентного рассеяния и
среднего значения микродеформаций с помощью рентгеновской
дифракции ....................................................................................................... 45
2.2. Количественный анализ остроты текстуры, определение угла рассеяния
текстуры .......................................................................................................... 50
2.3. Определение доли кристаллической фазы в однофазной
поликристаллической текстурированной пленке ....................................... 61
2.4. Определение толщины пленки методом энергодисперсионной
спектроскопии (ЭДС) .................................................................................... 63
2.5. Измерение удельного сопротивления тонких проводящих пленок
четырехзондовым методом ........................................................................... 67
3
2.6. Осаждение пленок металлов методом магнетронного распыления ......... 68
2.7. Распыление пленок металлов в плазме Ar высокочастотного
индукционного разряда ................................................................................. 69
3. Влияние ионно-плазменной обработки на микроструктуру,
кристаллическую текстуру, долю кристаллической фазы и удельное
сопротивление тонких пленок Pt ........................................................................ 73
3.1. Эксперимент ................................................................................................... 74
3.2. Оценка влияния разброса технологических параметров на разброс
значений параметров текстуры и микроструктуры для пленок Pt,
осажденных в различных процессах ............................................................ 77
3.3. Влияние ионно-плазменной обработки на параметры кристаллической
структуры и удельное сопротивление пленки Pt в режимах с
распылением пленки ...................................................................................... 78
3.4. Исследование кристаллической структуры пленки Pt, подвергнутой
ионно-плазменной обработке при средней энергии ионов ниже порога
распыления ..................................................................................................... 91
3.5. Основные результаты исследований ........................................................... 96
4. Влияние ионно-плазменной обработки на микроструктуру,
кристаллическую текстуру и удельное сопротивление тонких пленок Ti..... 99
4.1. Условия эксперимента ................................................................................... 99
4.2. Определение химического состава приповерхностных областей и
толщины пленок с помощью ЭДС и ОЭС ................................................. 101
4.3. Исследование текстуры пленок Ti с помощью РСА ................................ 103
4.4. Измерение удельного сопротивления пленок Ti ...................................... 114
4.5. Основные результаты исследований ......................................................... 120
5. Влияние плазменной и ионно-плазменной обработки на микроструктуру
и удельное сопротивление тонких пленок Co ................................................. 121
5.1. Условия эксперимента ................................................................................. 121
5.2. Влияние ПО и ИПО на удельное сопротивление пленок Co .................. 122
5.3. Основные результаты исследований ......................................................... 131
4
Основные результаты и выводы ............................................................................ 133
Литература ............................................................................................................... 135
Список работ автора по теме диссертации ........................................................... 152
