Физико-химические основы низкотемпературного осаждения карбидов вольфрама и их композиций из летучих фторидов при пониженных давлениях

Гончаров Виктор Леонидович. Физико-химические основы низкотемпературного осаждения карбидов вольфрама и их композиций из летучих фторидов при пониженных давлениях : диссертация ... кандидата химических наук : 02.00.04 / Гончаров Виктор Леонидович; [Место защиты: Ин-т физ. химии и электрохимии РАН им. А.Н. Фрумкина].- Москва, 2010.- 147 с.: ил. РГБ ОД, 61 10-2/330
Автор
Гончаров Виктор Леонидович
Год
2010
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации
Введение
ГЛАВА I. Литературный обзор 9
1. Анализ существующих методов нанесения упрочняющих покрытий 10
1.1. Насыщение поверхности стали примесями внедрения 10
1.2. Диффузионное насыщение поверхности примесями замещения 15
1.3. Электрохимические композиционные покрытия 16
1.4. Газотермическое напыление твердых слоев 18
1.5. Методы с применением физических полей 22
1.6. Газофазно-диффузионный метод упрочнения поверхности 24
1.7. Низкотемпературные газофазные методы нанесения покрытий... 32
1.8. Заключение 35
ГЛАВА II. Объекты и методы исследования 36
2.1. Методика термодинамического расчета химических систем 36
2.2. Объекты исследования 39
2.3. Методика исследования макрокинетики осаждения 39
2.4. Методика определения фазового состава осадков 43
2.5. Методика определения размера областей когерентного рассеяния 44
2.6. Методика измерения микротвердости 45
2.7. Сканирующая электронная микроскопия 47
2.8. Методика испытаний карбидных слоев на изностойкость 48
2.9. Масс-спектрометрии вторичных ионов и регистрации газовых молекул 52
2.10. Метод ядерных реакций D(3He,p)4He 54
ГЛАВА III. Термодинамика процесса осаждения карбидовольфрамовых слоев из газовой фазы 56
3.1. Общие принципы термодинамического анализа 56
3.2. Термодинамический анализ осаждения карбидов переходных металлов 57
3.3. Термохимические константы компонентов системы W-C-F 59
3.4. Равновесный выход компонентов в системе W-F-C-H 62
3.5. Равновесный состав газовых компонентов в системе W-F-C-H 69
ГЛАВА IV. Макрокинетические особенности осаждения карбидов вольфрама 73
4.1. Общие принципы химического газофазного осаждения 73
4.2. Экспериментальное исследование макрокинетики осаждения карбидов вольфрама при пониженных давлениях 77
4.3. Механизм осаждения карбидов вольфрама 84
ГЛАВА V. Некоторые физико-механических свойства карбидо-вольфрамовых слоев 95
5.1. Изучение фазового состава покрытий 95
5.2. Определение размера блоков когерентного рассеяния (ОКР) 102
5.3. Исследование морфологии ростовой поверхности покрытий 108
5.4. Микроструктура слоев карбидов вольфрама 110
5.5. Микротвердость карбидных слоев 115
5.6. Трибологические характеристики карбидных слоев 117
5.7. Накопление дейтерия в карбидах вольфрама 124
Выводы 135
Приложения 136
Литература 139

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Воронцов, Александр Вячеславович
Количество страниц
Год
2010
99 000 UZS
Автор
Давыдов, Антон Николаевич
Количество страниц
Год
2010
99 000 UZS
Автор
Гапанович Михаил Вячеславович
Количество страниц
Год
2010
99 000 UZS
Автор
Гамаюнова, Татьяна Викторовна
Количество страниц
Год
2010
99 000 UZS
Автор
Дугинов Евгений Владимирович
Количество страниц
Год
2010
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3