Введение
ГЛАВА 1. Фоточувствительность легированных кварцевых стекол 12
1.1. Фосфоросиликатное стекло и световоды на его основе 12
1.2. Внутриволоконные решетки показателя преломления 18
1.3. Фоточувствительность световодов 22
ГЛАВА 2. Техника эксперимента и экспериментальные установки 31
2.1. Характеристики фосфоросиликатных световодов, использованных при исследовании эффекта фотоиндуцированного наведения показателя преломления 31
2.2. Методики облучения световодов и измерения в них наведенного показателя преломления 36
2.3. Методы исследования дефектов, наводимых в сетке стекла при воздействии УФ излучения 44
ГЛАВА 3. Микроскопические дефекты в фосфоросиликатном стекле, наводимые излучением ArF-лазера (193 нм) 50
3.1. Спектры поглощения микроскопических дефектов 50
3.2. Наведенное поглощение в ИК спектральном диапазоне (2500-5000 нм) 55
3.3. Наведенное поглощение в телекоммуникационном диапазоне длин волн (1000-1600 нм) 58
3.4. Наведенное поглощение в УФ и видимом спектральных диапазонах (200-800 нм) 61
3.5. Наведенное поглощение в ВУФ спектральном диапазоне (150-200 нм) 63
3.6. Исследование корреляции дозных зависимостей наведенного поглощения и наведенного показателя преломления 71
3.7. Выводы 77
ГЛАВА 4. Динамика фотохимических процессов и наведения показателя преломления в фосфоросиликатных световодах при облучении ArF эксимерным лазером на длине волны 193 нм 78
4.1. Теоретическая модель двухэтапного процесса фотоиндуцированных преобразований дефектов в стекле 79
4.2. Обсуждение результатов 82
4.3. Выводы 98
ГЛАВА 5. Наведение показателя преломления в фосфоросиликатных световодах с использованием эксимерных лазеров, генерирующих на различных длинах волн 101
5.1. Фоточувствительность на длине волны генерации KrF-лазера (248 нм) 101
5.2. Фоточувствительность на длине волны генерации ArF-лазера (193 нм) 105
5.3. Фоточувствительность на длине волны генерации Р2-лазера (157 нм) ПО
5.4. Высокоэффективные ВКР-лазеры на базе фосфоросиликатных световодов 113
5.5. Выводы 117
Заключение 119
Литература 123
