Введение
ГЛАВА 1. Процессы формирования и транспортировки плазменными источниками узкосфокусированных электронных пучков в области предельных давлений форвакуумного диапазона 15
1.1 Исследование процессов, обусловливающих расширение рабочего диапазона давлений форвакуумных плазменных источников электронов 16
1.1.1 Техника эксперимента 18
1.1.2 Параметры и характеристики высоковольтного тлеющего разряда в ускоряющем промежутке электронного источника
1.2 Параметры электронного пучка в области предельных рабочих давлений 27
1.3 Процессы, сопровождающие транспортировку электронных пучков в области предельных давлений
1.3.1 Методика эксперимента 36
1.3.2 Влияние давления газа на изменение параметров электронного пучка при его транспортировке
1.4 Особенности фокусировки электронного пучка форвакуумного плазменного источника 50
1.5 Выводы по главе 1 58
ГЛАВА 2 Формирование ленточных электронных пучков форвакуумными плазменными источниками 60
2.1 Особенности функционирования разрядной системы с протяженным полым катодом форвакуумного плазменного электронного источника. 63
2.1.1 Техника эксперимента 63
2.1.2 Формирование однородной плазмы с повышенной концентрацией вблизи эмиссионной границы 68
2.1.3 Анализ процессов формирования однородной плазменной эмиссионной границы 75
2.1.4 Влияние дополнительного анода на равномерное распределение эмиссионной плазмы 83
2.2 Влияние геометрии катодной полости на однородность эмиссионной плазмы 89
2.2.1. Техника эксперимента 91
2.2.2 Результаты экспериментов 94
2.2.3 Анализ разрядных процессов в составной катодной полости 100
Выводы по главе 2 108
ГЛАВА 3 Исследование параметров плазмы, генерируемой форвакуумным плазменным источником в области транспортировки электронного пучка 110
3.1 Особенности создания пучковой плазмы в форвакуумной области давлений 111
3.1.1 Техника эксперимента и методики измерений 111
3.1.2 Параметры пучковой плазмы, генерируемой цилиндрическим электронным пучком
3.2 Масс-зарядовый состав пучковой плазмы в форвакуумной области давлений 126
3.3 Особенности создания объемной плазмы ленточным электронным пучком 131
Выводы по главе 3 139
ГЛАВА 4. Форвакуумные плазменные электронные источники на основе разрядных систем с полым катодом 141
4.1 Источник электронов на основе тлеющего разряда с протяженным полым катодом 142
4.2 Источник электронов на основе разряда с цилиндрическим полым катодом 161
4.3 Особенности электронно-лучевого воздействия на изолированные мишени в форвакууме
4.3.1 Потенциал изолированной мишени при ее облучении электронным пучком в области повышенных давлений 170
Выводы по главе 4 182
ГЛАВА 5. Некоторые применения форвакуумных электронных источников на основе плазменно-эмиссионных разрядных систем с полым катодом 184
5.1 Электронно-лучевая сварка керамических материалов 185
5.1.1 Техника и методика эксперимента 187
5.1.2 Результаты электронно-лучевой сварки керамики 189
5.1.3. Структура переплавленной области 192
5.1.4 Расчет температурного поля в керамическом материале при его облучении ленточным электронным пучком 199
5.1.5 Расчет температурного поля в керамическом материале при облучении цилиндрическим электронным пучком 204
5.2 Электронно-лучевое спекание керамических материалов 212
5.2.1 Электронно-лучевое спекание циркониевой керамики 213
5.2.2 Исследование структуры керамического материала после электроннолучевого спекания 227
5.2.3 Электронно-лучевое спекание алюмооксидной керамики 237
5.2.4 Электронно-лучевое спекание керамики на основе карбида кремния
5.3 Электронно-лучевая пайка металла с керамикой 248
5.4 Получение керамических покрытий в форвакуумной области давлений
Выводы по главе
Заключение 266
Список литературы 269
