Введение
ГЛАВА 1. Анализ геометрических задач и методов проектирования отражающих поверхностей технологического назначения 9
1.1. Анализ особенностей проектирования и эксплуатации систем направленного облучения 9
1.2. Методы проектирования световых приборов 17
1.3. Геометрическое моделирование кривых и поверхностей по заданным параметрам 26
ГЛАВА 2. Проектирование эффективных рефлекторов технологического назначения 38
2.1. Общая постановка задачи 38
2.2. Проектирование рефлекторов для равномерного распределения энергии 43
2.2.1. Рефлектор с поперечным сечением в виде кусочно-линейной функции 44
2.2.2. Рефлектор, профильная линия которого включает два параболических сегмента 50
2.2.3. Эллиптический рефлектор, профильная линия которого включает дополнительные линейные элементы. 56
2.3. Проектирования фокусирующих рефлекторов 63
2.3.1. Составной эллиптический рефлектор с дополнительными отражающими поверхностями 63
2.3.2. Составной параболический рефлектор с дополнительными отражающими плоскостями 68
2.4. Проектирование рефлекторов по заданному распределению энергии 71
2.4.1. Рефлектор для заданной функции распределения облученности 71
2.4.2. Рефлектор для заданного линейного пучка отраженных лучей 77
2.4.3. Рефлектор для заданного квадратичного пучка отраженных лучей 79
ГЛАВА 3. Проектирование рефлектора для системы направленного облучения 83
3.1. Программа автоматизированного проектирования эффективных рефлекторов технологического назначения 83
3.2. Рефлектор блока УФ-отверждения 85
3.3. Применение разработанных моделей для расчета геометрических параметров рефлектора экспонирующего устройства NUVA-W200 90
Заключение 99
Список литературы
