Введение
Глава 1 Формирование градиентных слоев 21
1.1. Формирование градиентных слоев с помощью сложных диафрагм на оптических элементах с плоской поверхностью. 21
1.2. Формирование градиентных слоев с помощью простейших неподвижных диафрагм 27
1.3. Формирование градиентных слоев с помощью пульсирующей диафрагмы 37
1.4. Формирование градиентных слоев с помощью диафрагм в виде полуплоскости 50
1.5. Формирование градиентных слоев с помощью диафрагмы в виде полуплоскости, меняющей своё положение в 57 пространстве
1.6. Формирование градиентных слоев с использование диафрагм простейшей формы на деталях, совершающих двойное вращение 61
1.7. Формирование градиентных слоев на сферической поверхности 68
1.8. Формирование слоев на подложках на подложках сферической формы, совершающих двойное вращение с диафрагмой, расположенной соосно 79
1.9. Оптимизация условий осаждения при испарении из поверхностного испарителя через круглую диафрагму (экран). 93
1.10 Анализ влияния толщины диафрагмы 85
1.11. Выводы 97
Глава 2 Формирование градиентных диэлектрических систем 99
2.1. Анализ факторов, влияющих на распределение коэффициента отражения по поверхности оптического элемента 100
2.2. Конструкции тонкоплёночных покрытий, используемых для создания градиентных систем 106
2.2.1 Четвертьволновые зеркала 111
2.2.2 Диэлектрические узкополосные фильтры 115
2.3. Фазовые характеристики градиентных покрытий 123
2.3.1 Фазовые характеристики градиентного слоя на подложке 127
2.3.2 Фазовые характеристики градиентной диэлектрической системы, содержащей просветляющее покрытие, сформированное четвертьволновыми слоями 134
2.3.3 Фазовые характеристики градиентной диэлектрической системы, содержащей просветляющее покрытие, сформированное нечетвертьволновыми слоями 137
2.3.4 Фазовые характеристики диэлектрической системы, сформированной несколькими градиентными слоями на просветляющем покрытии, состоящем из четвертьволновых слоев 140
2.3.5 Фазовые характеристики узкополосного диэлектрического светофильтра с градиентными разделительными слоями на просветляющем покрытии, сформированном четвертьволновыми слоями
2.4. Выводы 160
Глава 3 Синтез градиентных диэлектрических систем 163
3.1. Синтез градиентных диэлектрических систем с малым коэффициентом отражения (один диэлектрический слой на положке) 163
3.2. Синтез однослойных градиентных систем, сформированных на просветляющем покрытии с оптической толщиной, слоев, кратной четверти длины волны падающего излучения 166
3.3. Анализ свойств многослойных градиентных систем 173
3.4. Критерий определения условий осаждения градиентных
слоев с заданным распределением коэффициента отражения
по поверхности оптического элемента 176
3.5. Поиск требуемых условий изготовления оптических элементов с разными осесимметричными распределениями коэффициента отражения по их поверхности 183
3.6. Поиск условий осаждения клиновых интерференционных светофильтров с заданным распределением пропускания по поверхности оптического элемента 201
3.7. Выводы 222
Глава 4 Технология изготовления и исследование оптических свойств градиентных покрытий 225
4.1. Экспериментальное изготовление и исследование фильтров переменной плотности 225
4.2. Экспериментальное изготовление и исследование зеркал с диаметром рабочей зоны менее 10 мм 233
4.3. Экспериментальное изготовление и исследование зеркал с диаметром рабочей зоны более 50 мм 242
4.4. Экспериментальное изготовление и исследование клиновых интерференционных фильтров 250
4.5. Выводы 256
Заключение 257
Литература
