Введение
Глава 1. Диодные системы для формирования импульсных мощных ионных пучков 10
1.1 Отражательные диоды 11
1.2 Пинч - диодные системы 13
1.3 Магнитно-изолированные ионные диоды 16
1.3.1 Ионные диоды с Br - магнитным полем и пассивным анодом 16
1.3.2 Ионные диоды с Br - магнитным полем и активным анодом 23
1.3.3 Ионный диод полоскового типа с двухимпульсным режимом работы 26
1.3.4 Требования к магнитному полю ионного диода с Br - магнитным полем 28
Выводы 37
Постановка задачи 38
Глава 2 Аппаратура и методика проведения исследований 40
2.1 Сильноточный импульсный ионный ускоритель «ТЕМП» 40
2.2 Источник питания катушек магнитного поля 44
2.3 Диагностическое обеспечение ускорителя 48
2.3.1 Метод измерения магнитного поля в ускоряющем зазоре 50
2.3.2 Метод измерения импульсного давления 52
Глава 3. Исследование ионного диода с Br - магнитным полем 54
3.1 Конструкция ионного диода с Br - магнитным полем и пассивным анодом 54
3.2 Влияние магнитного поля на параметры ионного диода с Br - магнитным полем 57
3.3 Режимы работы ионного диода с Вr - магнитным полем 61
3.4 Исследование ионного диода с B r - магнитным полем в двухимпульсном режиме 64
3.5 Сравнительный анализ параметров ионного диода с Br - магнитным полем 70
Выводы 73
Глава 4. Короткоимпульсный имплантер 74
4.1 Исследование ресурса эмиссионного покрытия анода 74
4.2 Ограничение частоты следования импульсов при Газоотделении 78
4.3 Короткоимпульсная имплантация ионов углерода
в кремниевую мишень 87
Выводы 92
Заключение 93
Список литературы 95
