Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста

Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста

Автор
Шишлянников Антон Валерьевич
Год
2021
  • 99 000 UZS

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Шорыгин Евгений Александрович
Количество страниц
Год
2021
99 000 UZS
Автор
Шулукян Зепюр Егизаровна
Количество страниц
Год
2021
99 000 UZS
Автор
Яцушко Екатерина Сергеевна
Количество страниц
Год
2021
99 000 UZS
Автор
Авдушева Мария Алексеевна
Количество страниц
Год
2021
99 000 UZS
Автор
Айдемир Тимур
Количество страниц
Год
2022
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3