Введение
ГЛАВА 1. Источники излучения для ЭУФ литографии 15
1.1. Основные принципы ЭУФ литографии и требования, предъявляемые к источнику излучения 15
1.2. Источники селективного излучения для ЭУФ литографии 23
1.2.1. Литий 24
1.2.2. Ксенон 30
1.2.3. Олово 33
1.3. Методы получения высокотемпературной плазмы, излучающей в ЭУФ диапазоне 35
1.3.1. Генерация плазмы лазерным излучением 36
1.3.2. Разрядные способы получения плазмы 40
ГЛАВА 2. Источник ЭУФ излучения на основе разряда типа лазерноиндуцированнои вакуумной искры 46
2.1. Экспериментальная установка и ее основные функциональные системы 46
2.2. Электрические схемы возбуждения разряда 51
2.3. Методика измерения параметров ЭУФ излучения и других характеристик источника 56
ГЛАВА 3. Основные физические процессы, происходящие при работе источника ЭУФ излучени я 64
3.1. Инициирование разряда импульсом лазерного излучения 64
3.2. Основные физические процессы, происходящие в разряде 71
3.2.1. Процессы пинчевания и генерация ЭУФ излучения при катодном инициировании разряда 72
3.2.2. Особенности генерации ЭУФ излучения
при анодном инициировании разряда 81
3.3. Эффекты, возникающие при работе источника ЭУФ излучения в импульсно-периодическом режиме 85
3.4. Продукты эрозии электродов и методы защиты элементов оптической системы 93
ГЛАВА 4. Влияние параметров инициирующего лазерного импульса и схемы возбуждения разряда на характеристики источника ЭУФ излучения 102
4.1. Воздействие параметров лазерного импульса на характеристики источника ЭУФ излучения 102
4.2. Влияние параметров схемы возбуждения разряда на характеристики источника ЭУФ излучения 112
4.2.1. Энергия ЭУФ излучения и эффективность источника 112
4.2.2. Временная структура ЭУФ излучения и пространственные характеристики излучающей плазмы 120
4.3. Стабилизация разряда при использовании схемы возбуждения с предварительным разрядом 128
Заключение 137
Список литературы
