Введение
ГЛАВА 1. Разряд с полым катодом для генерации пучков заряженных частиц 8
1.1. Физические особенности тлеющего разряда с полым катодом 8
1.2. Особенности эмиссии электронов из плазмы разряда с полым катодом при повышенных давлениях 13
1.2.1. Общие особенности эмиссии электронов из плазмы 13
1.2.2. Особенности эмиссии из разряда с осцилляцией электронов 21
1.2.3. Особенности эмиссии электронов в условиях
повышенных давлений 23
1.2.3.1. Электрическая прочность ускоряющего промежутка 23
1.2.3.2. Обратный поток ионов
1.3. Генерация электронных пучков при повышенных давлениях газа.. 31
1.4. Выводы и постановка задач исследований 42
ГЛАВА 2. Разряд с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений для плазменных источников электронов 44
2.1. Параметры и характеристики тлеющего разряда с полым катодом
в форвакуумном диапазоне давлений 44
2.2. Разряд с полым катодом в аксиальном магнитном поле 51
2.3. Влияние эмиссии на параметры разряда с полым катодом 58
2.4. Выводы 68
ГЛАВА 3. Генерация электронных пучков в источнике на основе разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений 70
3.1. Общая характеристика источника электронов 70
3.2. Повышение рабочего давления источника электронов 76
3.2.1. Влияние размера ячейки эмиссионной сетки на предельное рабочее давление источника электронов 76
3.2.2. Влияние длины ускоряющего промежутка на предельное давление источника электронов 80
3.3. Анализ эмиссионных процессов при отборе электронов из плазмы разряда с полым катодом в форвакуумном диапазоне давлений 83
3.4. Влияние аксиального магнитного поля на эмиссионные процессы, предельное рабочее давление и электрическую прочность ускоряющего промежутка 90
3.5. Извлечение электронов через семейство каналов анодного электрода 99
3.6. Эффект возрастания электрической прочности промежутка в присутствии электронного пучка 109
3.7. Выводы 124
ГЛАВА 4. Источник электронов и его применение для реализации пучково плазменного разряда и технологии модификации поверхности конструкционных материалов 126
4.1. Конструкция источника электронов 126
4.2. Оптимизация геометрии разрядной системы и ускоряющего промежутка для повышения эффективности эмиссии источника электронов 131
4.3. Реализация пучково-плазменного разряда с помощью электронного пучка генерируемого созданным источником электронов 134
4.3.1. Пучково-плазменный разряд. Электрофизический аспект 134
4.3.2. Пучково-плазменный разряд. Химический аспект 136
4.3.3. Исследование динамики изменения функции распределения электронов 137
4.3.4. Зондовые измерения параметров плазмы ППР 144
4.4. Исследование процесса осаждения алмазоподобных
покрытий посредством диссоциации метана в плазме ППР 150
4.4.1. Методы плазменного осаждения алмазоподобных покрытий 150
4.4.2. Осаждение углеродосодержащей фазы на стеклянные подложки
4.4.3. Осаждение АПП на кремниевые подложки .155
4.4.4. Анализ АПП полученных путем диссоциации метана в плазме ППР 158
4.5. Выводы 164
Заключение 166
Литература
