Введение
1. Электромагнитная система управления газовым разрядом 9
1.1. Газоразрядный лазер на углекислом газе 11
1.2. Модуляция лазерного излучения 16
1.3. Положительный столб тлеющего разряда 19
1.3.1. Электрический дрейф заряженных частиц 21
1.3.2. Диффузионное движение заряженных частиц 24
1.3.3. Описание плазменных моделей 26
1.4. Исследование влияния магнитного поля на поведение газового разряда 32
1.4.1. Измерение параметров плазмы зондовым методом 35
1.4.2. Исследование смещения заряженных частиц под действием поперечного магнитного поля 40
1.5.Выводы 45
2. Разработка электромагнитной системы управления мощностью излучения лазера на углекислом газе 47
2.1. Механизмы влияния поперечного магнитного поля на активную среду молекулярного лазера 47
2.2. Расчет электромагнитной системы управления 53
2.3. Распределения магнитного поля в рабочем зазоре 55
2.4. Воздействие поперечного магнитного поля на уровень выходной мощности излучения лазера 66
2.5. Разработка схем управления электромагнитами 70
2.5.1. Импульсно-периодическая схема управления на симисторе 71
2.5.2. Схема формирования однократных импульсов 74
2.6. Выводы 79
3. Электротехнологические комплексы на основе управляемого газового разряда 80
3.1. Электротехнологический комплекс для изучения фазовых превращений в материалах 81
3.1.1. Установки для термического исследования фазовых превращений 85
3.1.2. Достижение высоких температур 87
3.1.3. Определение условий нагрева при исследовании фазовых превращений 89
3.1.4. Конструкция электротехнологического комплекса для исследования фазовых превращений в неорганических материалах 93
3.2. Электротехнологический комплекс для измерения толщины покрытий 102
3.2.1. Методы измерения толщины покрытий 102
3.2.2. Определение условий нагрева для измерения толщины покрытия 107
3.2.3. Комплекс для измерения толщины покрытий 114
3.3.Выводы 121
Заключение 122
Список литературы
