Введение
1 Исследование тонкопленочных структур в приближении оптической модели однослойной пленки 26
1.1 Использование интерференционных полос для доказательства равенства показателей преломления диэлектрических пленок и иммерсионных жидкостей 26
1.2 Сравнение показателей преломления диэлектрических пленок и иммерсионных жидкостей с помощью интерференционных полос 35
1.3 Измерение показателей преломления и толщины пленок поликристаллического кремния 38
1.4 Измерение показателей преломления ультратонких (до 5 нм) диэлектрических пленок на полупроводниковых подложках 45
1.5 Прецизионное определение показателей преломления диэлектрических пленок 55
1.6 Определение толщины и показателя преломления диэлектрического слоя, находящегося под слоем другого диэлектрика 60
1.7 Определение оптических постоянных кристаллов кубической сингонии 62
1.8 Оценка чисел переноса ионов при анодном оксидировании полупроводников 71
1.9 Оценка растворения образующегося оксида во время анодного оксидирования полупроводников 76
2 Исследование тонкопленочных структур и поверхности материалов при использование сложных оптических моделей. Систематизация особенностей тонкопленочных структур 82
2.1 Простая модель. Формулы, описывающие простую модель 82
2.2 Клиновидность пленок 84
2.3 Поглощение света в пленке 94
2.4 Плавное изменение показателя преломления пленки от её толщины и послойное строение пленки 110
2.5 Анизотропия пленок. Анизотропия образцов 129
2.6 Шероховатость границы пленка - среда 165
2.7 Несплошностъ пленок 172
2.8 Переходный слой между пленой и подложкой 183
2.9 Нарушенный слой на поверхности подложки 188
2.10 Шероховатость поверхности подложки и границы раздела пленка - подложка 208
2.11 Анизотропия подложек и изменение показателя преломления подложки перпендикулярно её поверхности 214
3 Определение механических напряжений в системе пленка - подложка оптическими методами 227
3.1 Используемый метод 227
3.2 Прибор для измерения кривизны пластин 227
3.3 Измерения при варьировании температуры образца 231
3.4 Результаты экспериментов по определению механических напряжений между пленкой и подложкой 232
3.5 Призменный интерферометр 240
4 Исследование массивных материалов и оптической элементной базы оптическими методами 246
4.1 Измерение показателей преломления методом призм 246
4.2 Определение оптических параметров материала плоскопараллельных пластин 256
4.3 Изучение стекла ТФ - 110 263
4.4 Исследование компенсатора к ЛЭФ - ЗМ 264
4.5 Обследование поверхности кристаллов трибората лития 266
Заключение 270
