Введение
1. Лазерные литографичские системы с круговым сканированием 28
1.1. Измерение и коррекция траектории движения лазерного пучка в круговых записывающих системах 43
1.1.1. Методы измерения биений шпинделя 45
1.1.2. Фотоэлектрический метод измерения траектории движения пучка с поворотом подложки 49
1.1.3. Коррекция траектории движения записывающего пучка. 56
1.2. Поиск центра вращения заготовки с фоточувствительным материалом 60
1.3. Система управления мощностью записывающего лазерного пучка 66
1.3.1 Управление мощностью пучка с раздельной модуляцией по угловой и радиальной координате 69
1.3.2 Метод инкрементной записи РОЭ 75
1.3.4. Инкрементный цифро-аналоговый привод модулятора 77
1.3.5. КЛЗС с двумя записывающими лазерами 82
1.3.6. КЛЗС с полностью мобильным оптическим каналом 88
1.3.7. КЛЗС с двумя записывающими лазерами 96
1.4. Методы управления локальной экспозицией фоторезиста при записи на КЛЗС 104
1.5. Выводы к главе 1 127
2. Методы и материалы полутоновой лазерной записи 129
2.1. Исследование полутоновой лазерной записи на пленках аморфного
кремния 129
2.1.1. Получение пленок a-Si 130
2.1.2. Методика экспериментов 131
2.1.3. Результаты экспериментов для пленок различных типов 132
2.1.4. Обсуждение механизма записи на пленках a-Si 145
2.1.5. Особенности записи ПФ на пленках a-Si 148
2.2. Исследование применения поверхностно-модифицированных LDW-
стекол для лазерной записи 153
2.2.1. Технология изготовления LDW-стекол 153
2.2.2. Воздействие сканирующего лазерного пучка на LDW-стекла 154
2.2.3. Жидкостное травление LDW-стекол 156
2.2.4. Влияние градиента мощности на характеристическую кривую 158 для LDW-стекол 158
2.2.5. Влияние скорости сканирования на полутоновую запись 165
2.2.6. Многопроходная запись 172
2.2.7. Пространственное разрешение 173
2.3. Особенности режима записи ПФ на КЛЗС 178
2.3.1. Тестирование полутонового материала. 178
2.3.2. Устранение эффекта оконтуривания 180
2.3.3. Изготовление фотошаблонов РОЭ с произвольной микроструктурой 189
2.2. Выводы к главе 2 194
3. Методы повышения дифракционной эффективности доэ с кусочно-непрерывным микрорельефом 196
3.1. Технология прямой лазерной записи на фоторезисте и ее моделирование 196
3.2. Оптимизация шага сканирования и размера пятна 203
3.3. Использование высоких порядков дифракции при расчете ДОЭ 205
3.4. Индивидуальная пиксельная оптимизация 207
3.5. Метод приграничной оптимизации (ZBO) 208
3.5.1 Экспериментальная проверка метода ZBO 214
3.5.2 СПФ для сочетания непрерывной и пошаговой записи 220
3.5.3 Особенности применения ZBO к записи двумерных ДОЭ 222
3.6. Метод оптимизированной двойной записи 223
3.7. Применение приграничной оптимизации к полутоновой фотолитографии с растрированным ПФ 229
3.8. Обсуждение результатов для оптимизации экспозиции 234
3.9. Метод контурной маски 235
3.9.1. Оптимизированный метод контурной маски 237
3.9.2. Оптимизация параметров технологического процесса с контурной маской .238
3.9.3. Упрощенная экспериментальная проверка ОМКМ 241
3.9.4. Влияние ошибок процесса изготовления 242
3.9.5. Ошибка ширины линий контурной маски 243
3.9.6. Погрешность совмещения. 244
3.9.7. Ошибка глубины травления 246
3.10. Сравнение различных методов увеличения дифракционной эффективности 249
3.11. Выводы к Главе 3 255
ГЛАВА 4. Контроль РОЭ 257
4.1. Методы аппроксимации микрорельефа 260
4.2. Определение аппроксимированной глубины 263
4.3. Сравнение методов определения аппроксимированной глубины 264
4.4 Метод «лестницы» 268
4.5. Унификация подходов к оптимизации и метрологической характеризации ДОЭ с кусочно-непрерывным рельефом 270
4.6. Оценка ДОЭ по профилометрическим данным 274
4.7. Обсуждение методов характеризации 275
4.8. Результаты к Главе 4 277
ГЛАВА 5. Применение разработанных технологий и систем для синтеза РОЭ 278
5.1. Изготовление осесимметричных высокоэффективных ДОЭ 278
5.2. Бифокальные дифракционно-рефракционные интраокулярные линзы 286
5.3. Синтез микролинзовых растров для задач метрологии 298
5.4. Запись оригиналов защитных голограмм с псевдообъемными элементами на установке CLWS-300IAE 302
5.5. Корректоры искажений волнового фронта в активных элементах лазеров .308
5.6. Выводы к главе 5 316
Заключение 317
Список сокращений и условных обозначений 321
Литература 325
