Введение
Глава 1. Состояние исследований магнетронных распылительных систем .. 8
1.1. Основные характеристики магнетронных распылительных систем 8
1.2. Конструктивные схемы магнетронных распылительных систем 11
1.3. Исследования внешних характеристик магнетронных распылительных систем 19
1.4. Экспериментальные исследования особенностей рабочего процесса в магнетронных распылительных системах 21
1.5. Теоретические исследования рабочего процесса в магнетронных распылительных системах 26
Глава 2. Экспериментальная установка и методы измерений 32
2.1. Схема установки 33
2.2. Экспериментальные магнетронные распылительные системы 37
2.3. Электрический одиночный зонд Ленгмюра 45
2.4. Особенности зондовых измерений в плазме с магнитным полем 50
2.5. Конструкция зонда и схема зондовых измерений 56
2.6. Методика измерений магнитного поля и холловского тока в магнетронном разряде . 60
Глава 3. Экспериментальные исследования разряда в магнетронных распылительных системах 69
3.1. Вольтамперные характеристики (ВАХ) разряда в магнетронных распылительных системах 69
3.2. Конфигурация магнитных полей в разрядном промежутке и их влияние на форму разряда 73
3.2. Измерение распределения локальных параметров плазмы в прикатодной области разряда 77
3.4. Исследование внешней границы области замагниченной плазмы 87
3.5. Экспериментальное определение величины холловского тока в разряде магнетронной распылительной системы 102
Глава 4. Электромагниты для магнетронных распылительных систем 104
4.1. Распределение магнитной индукции над поверхностью катода в зависимости от параметров электромагнита 104
4.2. Электромагнитная система для распыления ферромагнитных материалов. 116
Глава 5. Теоретическая модель разрядного промежутка магнетронной распылительной системы ... 122
5.1. Структура разрядного промежутка. 122
5.2. Некоторые константы, характерные для области замагниченной плазмы. Распределение В, Е, jp в области замагниченной плазмы 125
5.3. Эквивалентное давление и признаки подобия коэффициента ионизации в присутствии магнитного поля 131
5.4. Распределение коэффициента ионизации в разрядном промежутке... 136
5.5. Распределение плотности электронного токауе, плотности ионного тока j), концентрации плазмы пе в разрядном промежутке 137
5.6. Параметры разряда на границе области замагниченной плазмы и катодного слоя 141
5.7. Градиент электронного давления и его учет в описании плазмы магнетронного разряда 143
5.8. Холловский ток в области замагниченной плазмы 145
5.9. Баланс энергии электронов и температура электронов в анодной области разряда 150
5.10. Функция распределения ионов по энергиям на входе в катодный слой. Средняя энергия ионов на входе в катодный слой 155
5.11. Минимальное рабочее давление 161
5.12. Внешняя граница области замагниченной плазмы 167
5.13. Толщина катодного слоя 178
5.14. Движение электронов в катодном слое 180
5.15. Ионизирующая способность катодного слоя 185
5.16. Функция распределения ионов по энергиям на поверхности катода. Средняя энергия иона на поверхности катода 186
Выводы 192
Список литературы... 195
