Введение
Глава 1. Анализ современного состояния плазмохимических установок для осаждения и травления тонких пленок 13
1.1. Магнетронные распылительные системы 13
1.2. Установки с высокочастотным емкостным разрядом 16
1.3. Установки с индуктивным разрядом 18
1.4. Геликоны 21
1.5. Установки на основе СВЧ-ЭЦР разряда 23
Глава 2. Краткая теория ЭЦР - разряда и его применение 30
2.1. Баланс мощностей в СВЧ- разрядах 31
2.2. Распространение СВЧ- волн в магнитоактивной плазме 35
2,3. Конфигурации магнитного поля в установках с СВЧ -ЭЦР - плазмой 45
2.4. Получение тонких пленок в СВЧ-ЭЦР установках 53
Глава 3. Установка СВЧ - ЭЦР разряда 57
3.1. Назначение, общая характеристика и особенности установки 57
3.2. Разрядная камера, система вакуумирования и подачи газа 57
3,3. СВЧ- система 61
3.4. Магнитная система 63
3.4.1. Соленоидальные электромагниты 63
3.4.2. Постоянные магниты 69
Глава 4. Автоматизированная система диагностики 72
4.1. Зондовые измерения 72
4.2. Оптические измерения 79
Глава 5. Влияние геометрии магнитного поля на параметры СВЧ-ЭЦР плазмы 90
5.1.1. Разряд в соленоидальном поле. 90
5.1.2. Разряд в гибридном магнитном поле 95
5.1.3. Разряд в касповом магнитном поле... 99
Глава 6. Исследование процесса ионизации распыленных атомов металла 112
Глава 7. Измерение тепловых потоков на подложку 130
Глава 8. Расчет толщины пленок, получаемых методом распыления цилиндрической мишени. Сравнение с экспериментом , 143
Глава 9. Эксперименты по металлизации микроструктур с использованием ионизации атомов металла 157
Заключение 171
Литература 173
