Математическая модель формирования сплошных тонких пленок центрифугированием в производстве элементной базы микроэлектроники

Хоботнев Олег Юрьевич. Математическая модель формирования сплошных тонких пленок центрифугированием в производстве элементной базы микроэлектроники : диссертация ... кандидата технических наук : 05.13.18.- Воронеж, 2006.- 152 с.: ил. РГБ ОД, 61 07-5/379
Автор
Хоботнев Олег Юрьевич
Год
2006
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации
Введение
ТЕНДЕНЦИИ РАЗВИТИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ И ПРОБЛЕМЫ ЕГО МАТЕМАТИЧЕСКОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ 10
1.1. Тенденции развития микроэлектроники 10
1.2. Анализ проблем формирования тонких покрытий центрифугированием 15
1.3. Современное состояние математического моделирования процесса формирования тонких слоев 23
1.4. Цели и задачи исследования 33
2. СИНТЕЗ МАТЕМАТИЧЕСКОЙ МОДЕЛИ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПОКРЫТИЙ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЕМ 35
2.1. Математическая модель течения тонкой пленки при центрифугировании 35
2.2. Моделирование профиля распределения сил поверхностного натяжения при формировании тонкого покрытия 38
2.3. Моделирование процесса получения тонкой пленки методом подобия 44
2.4. Оценка адекватности математической модели 47
2.5. Анализ влияния сил поверхностного натяжения на формирование на-нопленок центрифугированием 50
2.6. Исследование сходимости решения при разложении в ряд компонент относительных скоростей 55
3. АНАЛИЗ МАТЕМАТИЧЕСКОЙ МОДЕЛИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСЛОЕВ ПРИ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИИ 58
3.1. Математическое описание условия нарушения неразрывности пленочного течения 58
3.2. Анализ влияния начальных условий на моделирование сплошности пленочного течения 64
3.3. Оценка влияния параметров математической модели на условия неразрывности течения пленки 66
3.4. Исследование численных методов решения математической модели 74
3.5. Исследование чувствительности математической модели 79
4. МЕТОДИКА И ТЕХНИКА ПРОВЕДЕНИЯ ЭКСПЕРИМЕНТОВ 83
4.1. Методика экспериментов и обработки экспериментальных данных 83
4.2. Техника экспериментов 90
5. ПРАКТИЧЕСКОЕ ИСПОЛЬЗОВАНИЕ РЕЗУЛЬТАТОВ ИССЛЕДОВАНИЯ 94
5.1. Методика инженерного расчета режима нанесения на пластину рациональной дозы фоторезиста 94
5.2. Пример расчета режима нанесения на пластину рационального дозы фоторезиста 96
5.3. Методика инженерного расчета режима вращения пластины 98
5.4. Пример расчета режима вращения пластины 100
5.5. Промышленное использование устройства для нанесения покрытий центрифугированием 102
5.6. Разработка системы имитационного моделирования процесса формирования тонких пленок центрифугированием 104
Основные выводы по результатам работы 110
ЛИТЕРАТУРА 111
Приложение 1.
Листинг программы математической модели течения тонкой пленки 121
Приложение 2.
Листинг программы управления центрифугой и дозатором 140
Приложение 3.
Схема электрическая принципиальная датчика скорости 151
Приложение 4.
Схема электрическая принципиальная фазового регулятора мощности 151
Приложение 5.
Схема электрическая принципиальная регулятора мощности 152
Приложение 6.
Схема электрическая принципиальная датчика уровня 152

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Рыженко Наталья Юрьевна
Количество страниц
Год
2006
99 000 UZS
Автор
Цой Сергей Александрович
Количество страниц
Год
2006
99 000 UZS
Автор
Рябов Олег Николаевич
Количество страниц
Год
2006
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3