Введение
1 Литературный обзор и постановка задачи исследования 13
1.1. Электрические и магнитные методы контроля толщины покрытий 13
1.1.1 Электроемкостной метод 14
1.1.2 Неразрутающий контроль методом вихревых токов 18
1.13 Индукционные толщиномеры 20
1.1.4 Магнитные толщиномеры 21
1.1.5 Приборы магнитостатического типа 23
1:2 Радиоволновые методы контроля толщины покрытий 25
1.2.1 Радиоволновой контроль диэлектрических материалов 25
1.2.2 Классификация СВЧ методов и средств 30 1:2.3 Средства измерения толщины диэлектрического слоя 31
1.3 Основные недостатки существующих методов контроля толщины покрытий 34
1.4.: Постановка задачи разработки метода контроля толщины магнитодиэлектрических покрытий на металле 35
Заключение по первой главе 37
2 Математическое описание взаимодействия поверхностных волн с магнитодиэлектрическим слоем на металлической поверхности 38
2.1 Описание явления распространения поверхностной волны над системой «магнитодиэлектрик-проводник» 3 8
2.2 Решение краевой задачи распространения поверхностной волны над неограниченной системой «магнитодиэлектрик-проводник» и адаптация к ограниченной системе 47
2.3 Применение явления распространения поверхностной волны к решению задачи 57
2.4 Схема реализации метода 62
2.5 Выбор длин волн генератора 66
2.6 Аппроксимация аналитической модели и ее оценка 73
2.7 Предлагаемые алгоритмы измерения 76
2.8 Коррекция модели для слоя, содержащего ферромагнитные частицы 80
2.9 Измерение волнового сопротивления магнитодиэлектрических покрытий 83 Заключение по второй главе 90
3 Разработка устройств для реализации метода 91
3.1 Классификация апертурных излучателей, 91
3.2 Внешние апертуры 93
3.3 Внутренние апертуры 98
3.3.1 Разработка направленных внутренних апертур 100
3.3.2 Разработка круговых синфазных апертур 102
3.3.3 Разработка излучателя для реализации трехчастотного алгоритма контроля толщины покрытия 105
3.4 Разработка измерительной системы поверхностного сканирования
толщины покрытий 109
Выводы по третьей главе 111
4 Экспериментальная оценка метода и его метрологический анализ 112
4.1 Методика вычисления коэффициента затухания 112
4.2 Базовая структура поля 113
4.3 Экспериментальные данные 116
4.4 Погрешность косвенных измерений метода 121
4.5 Проверка адекватности математической модели 122
4.6 Метрологическое обеспечение и выводы по метрологическому анализу метода 123
Выводы по четвертой главе 124
Основные результаты и выводы по работе 125
Список использованной литературы
