Введение
ГЛАВА 1. Электроосаждение металлов и сплавов (литературный обзор)
1.1. Механизм электроосаждения металлов 9
1.1.1. Монослойное осаждение 10
1.1.2. Образование центров кристаллизации 14
1.1.3. Многослойное осаждение 16
1.1.4. Особенности электроосаждения металлов из комплексных электролитов 19
1.2. Электроосаждение сплавов 21
1.2.1. Кинетические закономерности совместного электроосаждения металлов 22
1.2.2. Влияние состава электролита и условий электролиза на состав сплава 25
1.3. Размерные эффекты в электрохимических системах 30
1.4. Возможности метода инверсионной вольтамперометрии 33
1.5. Закономерности электрохимического образования и поведения бинарных систем на твердых электродах 35
1.6. Моделирование процессов электроосаждения 41
ГЛАВА 2. Методика эксперимента
2.1. Приготовление растворов 47
2.2. Исследования начальных стадий электроосаждения металлов и сплавов 49
2.2.1. Метод инверсионной вольтамперометрии 51
2.2.2. Потенциостатические измерения 52
2.2.3. Гальваностатические исследования 52
2.2.4. Микрофотографические исследования 53
ГЛАВА 3. Исследование взаимодействий металлов в тонкодисперсных бинарных системах методом инверсионной вольтамперометрии
3.1. Системы Ag-Cu и Cu-Ag 54
3.2. Системы Ag-Bi и Bi-Ag 61
3.3. Системы Ag-Co и Co-Ag 67
3.4. Системы Zn-Ni и Ni-Zn 74
3.5. Системы Zn-Co и Co-Zn 83 Выводы 89
ГЛАВА 4. Изучение морфологии поверхности осадков на начальных стадиях осаждения
4.1. Морфология поверхности осадков Ag и Си 90
4.2. Морфология поверхности осадков Ag и Bi 94 Выводы 101
ГЛАВА 5. Потенциостатическая модель формирования тонкодисперсных осадков при электроосаждении металлов
5.1. Обоснование к построению модели 102
5.2. Образование и рост тонко дисперсных осадков при электроосаждении металлов 106
5.3. Экспериментальные потенциостатические кривые осаждения металлов 111
5.4. Модельная обработка результатов эксперимента 120
5.5. Потенциостатические кривые совместного осаждения металлов 131
Выводы 133
ГЛАВА 6. Изучение механизма образования и роста осадков при гальваностатическом осаждении металлов
6.1. Кинетика образования и роста тонкодисперсного осадка при постоянном токе 134
6.2. Диффузионный рост тонкодисперсного осадка при постоянном токе 141
6.3. Формирование тонкодисперсных осадков серебра на СУ электроде 146
6.4. Формирование тонкодисперсных осадков висмута на СУ электроде 150
6.5. Образование и рост тонкодисперсных осадков меди на СУ электроде в гальваностатических условиях 155
6.6. Образование и рост дисперсных осадков цинка в гальваностатических условиях 163
Выводы 168
Общие выводы 169
Литература 171
