Введение
ГЛАВА 1. Основные тенденции в области увеличения термоэлектрической добротности 11
1.1. Анализ исследований в области термоэлектрических наноструктур 11
1.2. Обзор литературы по исследованию метода искрового плазменного спекания для создания объемных нанокристаллических термоэлектриков 16
1.3. Выбор термоэлектрического материала для исследования 24
1.4. Моделирование процесса искрового плазменного спекания для получения материалов с улучшенной термоэлектрической добротностью 26
1.5. Нелинейные и нелокальные термоэлектрические явления 28
1.6. Выводы по главе 1 32
ГЛАВА 2. Моделирование процесса искрового плазменного спекания на макроуровне 34
2.1. Моделирование температурных полей в рабочей зоне установки искрового плазменного спекания 34
2.2. Сравнение результатов моделирования с экспериментом 41
2.3. Подбор оптимальной матрицы пресс-формы установки искрового плазменного спекания 2.4. Выводы по главе 2 55
ГЛАВА 3. Моделирование процесса искрового плазменного спекания на уровне наночастиц 57
3.1. Моделирование температурных полей в системе «два зерна: два усеченных конуса» 57
3.2. Моделирование температурных полей в системе «цепочка усеченных конусов» 60
3.3. Сравнение результатов моделирования с экспериментом 68
3.4. Выводы по главе 3 82
ГЛАВА 4. Оценка возможности проявления нелинейных и нелокальных явлений 84
4.1. Исследование явлений на границе контакта «конус-пластина 84
4.2. Исследование явлений на границе контакта «две пластины» 89
4.3. Исследование возможности появления эффекта Бенедикса в модели «пластина с перемычкой» 100
4.4. Возможность проявления нелинейных явлений в модели «цепочка конусов» 104
4.5. Выводы по главе 4 105
Заключение 107
Список условных обозначений 109
Список литературы
