Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость

Гришаков Владимир Владимирович. Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость : Дис. ... канд. техн. наук : 05.27.01 : Москва, 2003 142 c. РГБ ОД, 61:04-5/1594
Автор
Гришаков Владимир Владимирович
Год
2003

  • 99 000 UZS

Рекомендуем вам товары

Планарные параболические линзы из кремния для жесткого рентгеновского излучения
99 000 UZS
Автор
Григорьев Максим Валентинович
Количество страниц
Год
2003
Особенности проектирования полностью цифровых систем ФАПЧ для процессорных устройств
99 000 UZS
Автор
Зиновьев Денис Владимирович
Количество страниц
Год
2005
Твердотельные ядерные магнито-резонансные (ЯМР) ансамблевые квантовые компьютеры : Исследования физических основ и проблем реализации
99 000 UZS
Автор
Кокин Александр Александрович
Количество страниц
Год
2003
Разработка методов автоматизированного проектирования интерфейсных БИС
99 000 UZS
Автор
Неудобнов Николай Александрович
Количество страниц
Год
2003
Исследование планарных полупроводниковых структур методами линейного и нелинейного отражения света
99 000 UZS
Автор
Шутов Дмитрий Геннадьевич
Количество страниц
Год
2003
Новостной блок
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3