Введение
Глава 1. Аналитический обзор 10
1.1. Состояние вопроса 10
1.2. Особенности электролитно-плазменной обработки 11
1.3. Особенности анодной модификации поверхности полупроводников
1.3.1. Элементарные полупроводники 14
1.3.2. Сложные полупроводники 19
1.4. Оксидные покрытия на металлах. Механизм роста анодного оксида
алюминия 23
Глава 2. Методическая часть 30
2.1. Методика электролитно-плазменной обработки поверхности 30
2.1.1. Возбуждение стационарной плазмы над поверхностью жидкого анода 31
2.1.2. Возбуждение стационарной плазмы в объеме электролита 32
2.1.3. Импульсное воздействие плазмы 34
2.1.4. Снятие спектров свечения электролитной плазмы 35
2.2. Модификация поверхности в режиме стандартной электрохимической анодной обработки 36
2.2.1. Схемы используемых установок 36
2.2.2. Конструктивные особенности используемых ячеек 37
2.3. Подготовка образцов и методика проведения опытов 38
2.3.1. Полупроводники 39
2.3.2. Металлы 40
2.4. Анализ сформированных структур 40
Глава 3. Электролитно-плазменная обработка металлов и полупроводников 44
3.1. Теоретические аспекты зарождения и поддержания стационарной электролитной плазмы 44
3.2. Режимы возбуждения электролитной плазмы при катодной поляризации медного электрода 51
3.3. Особенности анодной поляризации медного электрода в режиме возбуждения плазмы 58
3.4. Эффекты, сопровождающие процесс электролитно-плазменной обработки 61
3.4.1. «Отстрел» газовых пузырьков от поверхности электрода 62
3.4.2. Присоединенная масса жидкости к движущемуся пузырьку 70
3.5. Электролитная плазма на сложных полупроводниках 78
3.6. Спектры плазменного излучения 80
3.7. Структурные преобразования катоднополяризуемых электродов в режиме возбуждения плазмы 83
3.8. Ожидаемое структурирование окисного слоя при его электрохимическом формировании 87
Глава 4. Анодное структурирование полупроводников 89
4.1. Особенности анодных оксидных пленок на кремнии 89
4.1.1. Топологические неоднородности оксидных пленок на кремнии 89
4.1.2. Фазовый и элементный анализ анодноформируемых окислов на кремнии 97
4.2. Особенности анодной обработки сложных полупроводников типа AIIIBV 103
4.2.1. Топология оксидных пленок на полярных плоскостях {111} n-GaAs 104
4.2.2. Состав анодных пленок на полярных плоскостях {111} n-GaAs 113
Глава 5. Механизм порообразования в анодном оксиде алюминия 115
Основные результаты и выводы 128
Список литературы
