Введение
1. Изменение состава поверхностных слоев материалов под воздействием ионного облучения
2. Методы облучения и исследования
2.1. Методика получения тонких пленок оксидов металлов.
2.2. Методика протонного облучения образцов
2.3. Просвечивающая электронная микроскопия и электронография на просвет и на отражение
2.4. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
2.5. Измерение магнитных свойств с помощью вибрационного магнитометра
2.6. Измерение электрического сопротивления
2.7. Профилометрия
2.8. Атомно-силовая и магнитно-силовая микроскопия
3. Результаты исследования структуры, состава, электрических и магнитных свойств тонкопленочных оксидов металлов до и после протонного облучения
3.1. Микроструктура и состав исходных материалов
3.2. Влияние протонного облучения на структуру и состав материалов
3.3. Образование неравновесных полиморфных модификаций в тонких пленках тугоплавких металлов, полученных в результате протонного облучения оксидов
3.4. Влияние дополнительного верхнего слоя на восстановление металлов из оксидов под действием протонного облучения
3.5. Влияние протонного облучения на объемные изменения материалов
3.6. Влияние протонного облучения на электропроводность
3.7. Влияние протонного облучения на магнитные свойства
3.8. Влияние температуры на скорость процессов восстановления
3.9. Управление прямоугольностью петли магнитного гистерезиса восстановленных металлов с помощью упругой деформации подложки
3.10. Сравнительный анализ физических свойств восстановленных металлов
3.11. Факторы, способствующие удаления атомов кислорода из оксидов металлов при протонном облучении
4. Использование протонного облучения для создания структур заданной геометрии на подложке
4.1. Определение толщины защитной маски из фото- и электронного резиста
4.2. Литография высокого разрешения, основанная на селективном удалении атомов под действием протонного облучения
4.3. Использование протонного облучения для создания периодических магнитных структур
4.4. «Безмасочная» литография
Заключение
