Введение
1 Периодические структуры: методы формирования, интерференцион ные и дифракционные свойства 10
1.1 Формирование периодических структур методом интерференционной фотолитографии 10
1.2 Неорганический фоторезист на основе халькогенидного стекла 16
1.3 Просветляющие покрытия на основе периодических структур 18
1.4 Заключение 33
2 Формирование периодических структур методом интерференционной фотолитографии 36
2.1 Оптическая схема, применяемая для интерференционного экспонирования 37
2.2 Фоторезист 39
2.2.1 Нанесение пленок AS2S3 40
2.2.2 Экспонирование 40
2.2.3 Проявление 42
2.2.4 Исследование зависимости скорости растворения от дозы облучения 43
2.3 Компьютерное моделирование 45
2.3.1 Модель 45
2.4 Результаты моделирования, сравнение с экспериментом . 52
2.4.1 Зависимость формы профиля от параметров экспозиции, эффект стоячей волны 52
2.4.2 Скрещенные решетки 59
2.5 Заключение 61
3 Дифракционные свойства периодических структур, уменьшающих отражение от поверхности 62
3.1 Просветляющие покрытия на основе периодических структур 62
3.1.1 Эффективный показатель преломления 64
3.1.2 Антиотражающий слой 67
3.2 Дифракционные свойства периодических структур, уменьшающих отражение от поверхности 71
3.3 Заключение 78
Заключение 80
Литература
