Введение
ГЛАВА 1 Генерация электронных пучков плазменными источниками в форвакуумной области давлений 8
1.1 Эмиссия электронов из плазмы в форвакуумной области давлений 8
1.2 Влияние обратного ионного потока на условия функционирования и параметры форвакуумных плазменных источников электронов 13
1.3 Потенциал изолированного коллектора, облучаемого электронным пучком в форвакуумной области давлений 17
1.4 Электронно-лучевая обработка непроводящей керамики форвакуумными плазменными источниками 23
1.5 Выводы и постановка задач исследований 27
ГЛАВА 2 Оборудование и методика проведения экспериментов импульсного пучка большого сечения 29
2.1 Форвакуумный плазменный источник электронов на основе разряда с полым катодом 29
2.2 Диагностика параметров электронного пучка и пучковой плазмы 34
2.2.1 Измерение тока пучка 34
2.2.2 Измерение диаметра пучка 36
2.2.3 Энергетический спектр электронов 37
2.2.4 Измерение параметров пучковой плазмы 39
2.3 Оборудование и методика для электронно-лучевой обработки непроводящей керамики 41
2.3.1 Электронно-лучевое спекание керамики 41
2.3.2 Электронно-лучевая пайка металла с керамикой 43
2.4 Выводы 45
ГЛАВА 3 Особенности формирования и транспортировки электронного пучка в области повышенных давлений 46
3.1 Влияние геометрии ускоряющего промежутка на предельные параметры форвакуумного плазменного источника электронов 46
3.2 Формирование электронного пучка 53
3.3 Параметры электронного пучка и пучковой плазмы в области транспортировки 57
3.3.1 Диаметр пучка 57
3.3.2 Ток пучка 58
3.3.3 Энергия пучка 60
3.3.4 Пучковая плазма 62
3.4 Выводы 65
ГЛАВА 4 Форвакуумный плазменный источник электронов для формирования пучков в диапазоне давлений 1-100 па 66
4.1 Конструкция источника электронов 66
4.2 Электронно-лучевое спекание непроводящей керамики 71
4.2.1 Электронно-лучевое спекание алюмооксидной керамики 71
4.2.2 Электронно-лучевое спекание циркониевой керамики 76
4.3 Электронно-лучевая пайка металла с керамикой 86
4.4 Выводы 92
Заключение 93
Список литературы 96
Приложение 105
