Введение
Глава 1. Вакуумное лазерное напыление и эпитаксия (литературный обзор)
1.1. Лазерная плазма, используемая для получения пленок 25
1.2. Получение тонких и сверхтонких пленок из лазерной плазмы 31
Глава 2. Экспериментальное оборудование для получения пленок и исследования их свойств
2.1. Комплекс экспериментального оборудования для получения тонких пленок 37
2.2. Методики исследования свойств пленок и многослойных структур 41
Глава 3. Получение из лазерной плазмы пленок полупроводников группы
3.1. Исследование влияния интенсивных импульсных потоков ионов на электрофизические свойства арсенида галлия 47
3.2. Получение из эрозионной лазерной плазмы тонких слоев арсенида галлия 57
Глава 4. Особенности роста пленок простых и сложных окислов из эрозионной лазерной плазмы в химически - активной газовой среде
4.1. Получение из лазерной плазмы неориентированных пленок окислов 67
4.2. Низкотемпературная эпитаксия диэлектриков при лазерном распылении материалов 77
4.3. Свойства тонких пленок PbZri- Тіх Оз, полученных из лазерной плазмы..83
Глава 5. Особенности роста высокотемпературных сверхпроводников эрозионной лазерной плазмы в химически - активной газовой среде
5.1. Исследование возможности получения пленок УВагСизОх из эрозионной лазерной плазмы 94
5.2.Структурные исследования пленок УВагСизО* полученных из эрозионной лазерной плазмы 104
5.3. Токонесущая способность сверхпроводящих пленокУВагСизО*, полученных из лазерной плазмы в слабых магнитных полях 110
5.4. Некоторые проблемы получения однородных пленок YBCO для СВЧ-
применений 116
Заключение 124
Список цитируемой литературы 128
