Введение
1 Материалы, методы приготовления и контроля многослойных тонкопленочных подложек и схемы регистрации поверхностного плазмонного резонанса 24
1.1. Магнетронное распыление материалов в вакууме как эффективный способ получения ППР подложек 24
1.2. Приготовление тонкопленочных подложек для регистрации ППР 30
1.3 Материалы подложек и методы их приготовления для достижения требуемых свойств 30
1.3.1 Сканирующая зондовая микроскопия 31
1.4. Методы контроля роста пленок и их качества 34
1.5. Нанесение металлических пленок 36
1.6. Защитные оксидные пленки для серебряных ППР-подложек 36
1.6.1. Методика проверки качества защитных буферных слоев 39
1.7. Базовые оптические схемы регистрации поверхностного плазмонного резонанса в тонких пленках 45
1.8. Выводы первой главы 48
2. Поверхностный плазмонный резонанс в тонких пленках, находящихся в газообразных средах 49
2.1. Изменение ППР в присутствии паров ртути и водорода 49
2.2. Исследование процесса окисления озоном тонких серебряных пленок с помощью поверхностного плазмонного резонанса 52
2.3. Спектроскопия поглощения поверхностных плазмонов в тонких пленках 56
2.3.1. Ленгмюровские пленки 56
2.3.2. Получение спектров поглощения пленок нанометровой толщины 59
2.3.3. Бактериальные пленки 61
2.4. Выводы второй главы 64
3. Исследование поверхностной оптической сенсибилизации поликристаллических пленок нанокристаллов иодида серебра методом поверхностной плазмонной спектроскопии 65
3.1. Введение 65
3.2. Поверхностная оптическая сенсибилизация 66
3.3. Наблюдение поверхностной оптической сенсибилизации в тонких пленках галогенида серебра методом ППР 68
3.3.1. Приготовление серебряного слоя 68
3.3.2. Буферный защитный слой 69
3.3.3. Поверхностная оптическая сенсибилизация модельным слаболетучим веществом - красителем арсеназо III 69
3.3.4. Результаты и их обсуждение 73
3.4. Выводы третьей главы 76
Выводы 77
