Радиационно- и фотостимулированное дефектообразование в активированных оксидных и фторидных стеклах

Бочарова Татьяна Викторовна. Радиационно- и фотостимулированное дефектообразование в активированных оксидных и фторидных стеклах : дис. ... д-ра физ.-мат. наук : 01.04.07 СПб., 2006 379 с. РГБ ОД, 71:07-1/175
Автор
Бочарова Татьяна Викторовна
Год
2006

  • 99 000 UZS

Рекомендуем вам товары

Самоорганизация и упорядочение в оксидных и силикатных системах
99 000 UZS
Автор
Ванина Елена Александровна
Количество страниц
Год
2006
Исследование воздействия плазменных потоков и ионных пучков на обращенные к плазме материалы термоядерного реактора
99 000 UZS
Автор
Коршунов Сергей Николаевич
Количество страниц
Год
2007
Доплеровский сдвиг второго порядка для спектральных линий естественной ширины при сверхпроводящем фазовом переходе
99 000 UZS
Автор
Волков Владимир Петрович
Количество страниц
Год
2006
Исследование радиационных центров и наночастиц в ион-имплантированных оксидных и фторидных стеклах
99 000 UZS
Автор
Тепляков Юрий Георгиевич
Количество страниц
Год
2007
Широкополосная люминесценция ионов CR3+ в кристаллах ниобата лития
99 000 UZS
Автор
Галуцкий Валерий Викторович
Количество страниц
Год
2023
Новостной блок
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3