Введение
Глава 1. Состояние и перспективы развития кремниевой эпитаксиальной технологии и оборудования 14
1.1. Введение 14
1.2. Отличительные особенности и задачи газофазной эпитаксии кремния 17
1.3. Классификация и краткая характеристика эпитаксиалышх реакторов 25
1.4. Постановка задачи 32
Глава 2. Анализ напряженно-деформированного состояния кремниевых пластин при высокотемпературной обработке . 34
2.1. Термоупругие напряжения и термопластические эффекты в кремниевых подложках при высокотемпературной обработке 36
2.2. Распределение температуры в полупроводниковых пластинах при различных условиях нагрева. 48
2.3. Тепловое состояние подложек в процессе газофазной эпитаксии кремния. 58
2.4. Выводы 63
Глава 3. Теплообмен в системе «подложкодержатель - подложка - стенка реактора» 64
3.1. Некоторые особенности контактирования шероховато-волнистых поверхностей 65
3.2. Модель теплообмена между подложкой и подложкодержателем. 68
3.3. Результаты моделирования и их анализ 75
3.4. Экспериментальные исследования распределения температуры подложек в реакторах различной модификации . 78
3.5. Выводы 86
Глава 4. Исследование лучистого теплообмена в устройствах их нагрева 87
4.1. Модель реактора с плоскими отражателями. 90
4.2. Модель реактора с цилиндрическими отражателями 94
4.3. Анализ результатов моделирования нагревательных устройств с линейными источниками ик-нагрева . 98
4.4. Модель сферического реактора с квазиточечными источниками излучения. 104
4.5. Анализ результатов моделирования нагревательных устройств с квазиточечными источниками ик- нагрева. 110
4.6. Схема реакционной камеры с двойным нагревом. 113
4.7. Выводы 115
Глава 5. Разработка узлов и агрегатов установки газофазного осаждения кремния на подложки большого диаметра 116
5.1. Общая компоновка разрабатываемой установки 118
5.2. Реакционная камера. 133
5.3. Производительность установки. 138
5.4. Оценка окупаемости установки 142
5.5. Выводы 144
Основные выводы 145
Литература 147
Приложения 155
