Введение
Глава 1. Методы нанесения и контроля оптических . покрытий 9
1.1. Способы формирования слоев осаждением в вакууме 9
1.2. Методы вакуумной асферизации . 14
1.3. Контроль толщины тонких пленок в процессе осаждения 21
1.4. Контроль формы оптических асферических поверхностей . 25
Глава 2. Расчет распределения толщины слоев получаемых испарением в.вакууме 33
2.1. Постановка задачи 33
2.2. Распределение толщины слоя на поверхности подложки, совершающей планетарное вращение 37
2.3. Распределение толщины слоя при использо- вании испарителя, малых размеров 45
2.4. Расчет -распределения толщины слоя на подложках, со сферической, формой поверхности.. Обсуждение результатов 47
2.5. Выбор параметров подложки и геометрии вакуумной установки.для создания поверхностей,
заданной асферичностью 54
2.6. Упрощенный расчет профиля слоя планоидных асферических элементов, изготовленных при одинарг . ном вращении подложки 60
Глава 3. Оптимизация формы приемной поверхности при.массовом изготовлении тонкопленочных систем 68
3.1. Связь между формой приемной поверхности и геометрией испарительной установки при осаждении равнотолщинных слоев 71
3.2. Определение оптимальной формы приемной поверхности при испарении из точечного иплоского испарителя 75
Глава 4. Экспериментальное исследование покрытий переменной толщины 84
4.1. Экспериментальная вакуумная установка 84
4.2. Особенности формирования диэлектрических покрытий 87
4.3. Исследование металло-диэлектрических асферизующих систем 99
4.4. Антиотражательные фильтры с бесконечной контрастностью 114
4.5. Выводы , 124
Заключение 128
Литература 130
Приложение 142
