Введение
Глава 1. Аналитический обзор литературы
1.1. Современные методы нанесения неорганических покрытий 14
1.2. Электроискровое легирование как перспективный метод нанесения покрытий 14
1.2.1. Современные представления о процессе электроискрового легирования 17
1.2.2 Пробой межэлектродного промежутка 23
1.2.3 Электрическая эрозия 24
1.2.4 Полярный перенос материалов электродов 27
1.2.5 Формирование вторичной структуры на аноде 29
1.2.6 Формирование измененного поверхностного слоя на катоде 30
1.2.7 Требования к электродным материалам 33
1.3 Общие сведения о системах W- С-Со, W-C-Ni, W-C-Fe, W- С -Ті 35
1.4 Получение наноструктурированных материалов WC-Co 42
Глава 2. Материалы и методы исследования 57
2.1 Характеристика исходного порошка 57
2.2 Прессование 57
2.3 Вакуумное спекание 57
2.4 Вакуумное компрессионное спекание 58
2.5 Горячее прессование 58
2.6 Измерение относительной плотности образцов 59
2.7 Теплофизические свойства 60
2.8 Оборудование ЭИЛ 60
2.9 Материалы подложек (катоды) 62
2.10 Электродные материалы (аноды) 62
2.11 Исследование кинетики массопереноса электродных материалов 62
2.12 Изготовление шлифов и оптическая микроскопия 63
2.13 Измерение твердости покрытий 63
2.14 Определение твердости, модуля упругости и упругого восстановления 63
2.15 Трибологические исследования 64
2.16 Измерение шероховатости 65
2.17 Рентгеноструктурный анализ 65
2.18 Сканирующая электронная микроскопия 66
2.19 Электронная Оже-спектроскопия 66
2.20 Рентгеновская фотоэлектронная спектрометрия 66
2.21 Ионная сканирующая микроскопия 67
Глава 3. Получение наноструктурированных электродов и предварительная оценка состава и свойств покрытий 68
3.1 Прессование 68
3.2 Вакуумное спекание 69
3.3 Вакуумное компрессионное спекание 74
3.4. Горячее прессование 75
3.5 Определение состава и свойств покрытий 76
3.6 Выводы 80
Глава 4. Физико-химические особенности процессов формирования и свойства электроискровых покрытий на титановой подложке 81
4.1 Кинетика массопереноса 81
4.2 Структура и свойства формируемых покрытий 83
4.3 Вторичная структура электродов-анодов 88
4.4 Физико-химические особенности формирования покрытий 93
4.5 Трибологические свойства покрытий 96
4.6 Выводы 97
Глава 5. Физико-химические особенности процессов формирования и свойства электроискровых покрытий на никелевой подложке 99
5.1 Кинетика массопереноса 99
5.2 Структура и свойства формируемых покрытий 102
5.3 Вторичная структура электродов-анодов 109
5.4 Физико-химические особенности формирования покрытий 114
5.5 Трибологические свойства покрытий 115
5.6 Выводы 116
Глава 6. Физико-химические особенности процессов формирования и свойства электроискровых покрытий на железной подложке 117
6.1 Кинетика массопереноса 117
6.2 Структура и свойства формируемых покрытий 120
6.3 Вторичная структура электродов-анодов 126
6.4 Физико-химические особенности формирования покрытий 131
6.5 Трибологические свойства покрытий 132
6.6 Выводы 134
Глава 7. Практическое применение технологии электроискрового легирования, наноструктурированных электродов и покрытий 135
Выводы 137
Список использованных источников 139
Приложение
