Введение
ГЛАВА I. Состояние вопроса 9
1.1. Место и роль плазменной технологии в осуществлении физико-химических процесов 9
1.2. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике 13
1.3. Характеристика и классификация методов плаз-мохимического синтеза диэлектриков 16
1.3.1. Нитрид кремния 21
1.3.2. Нитрид бора 23
1.3.3. Нитрид алюминия 25
1.4. Особенности генерации химически активных частиц в потоке плазмы и их применение в осуществлении химических реакций 27
1.5. Заключение по обзору литературы 31
ГЛАВА II. Исследование роли атомов водорода в получении тонких пленок порошков нитрида и карбида кремния 33
2.1. Описание высокочастотной плазмохимической установки 33
2.2. Исследование роли атомов водорода в протекании твердофазной реакции формирования карбида кремния 35
2.3. О возможности плазмохимического получения тонких пленок нитрида кремния 47
ГЛАВА III. Разработка плазмохимическои технологии получения порошков нитрида алюминия и плазменной закалки деталей 56
3.1. Разработка плазмохимическои технологии получения мелкодисперсных порошков нитрида алюминия 56
3.2. Технологическая схема плазменно-поверхностной закалки детелей 67
3.3. Расчет годовой экономической эффективности от установки для плазменной закалки крановых колес и прочих деталей 78
Заключение 81
Выводы 85
Литература 86
Приложение 104
