Введение
Глава 1. Светосильный рефлектометр и его применения для исследования коэффициентов отражения / пропускания оптики на длине волны 13,5 нм 17
1.1. Оптическая схема и принцип работы прибора 18
1.2. Разборная рентгеновская трубка 21
1.3. Двухзеркальный монохроматор на основе Nb/Si МРЗ 24
1.3.1. Монохроматоры и зеркала для MP и ЭУФ диапазонов 24
1.3.2. Светосильный монохроматор для рефлектометра 27
1.4. Детектор рентгеновского излучения 31
1.5. Тестирование прибора 32
1.5.1. Размеры ЭУФ пучка 32
1.5.2. Оценка чувствительности прибора 36
1.6. Изучение коэффициентов пропускания абсорбционных фильтров 38
1.6.1. Установка для паспортизации ТАФ 39
1.6.2. Экспериментальные результаты 41
Глава 2. Детектор ЭУФ излучения и абсолютно калиброванный измеритель ЭУФ мощности для аттестации источников излучения на 13,5 нм 46
2.1. Детектор ЭУФ излучения для работы в режиме счета фотонов 46
2.1.1. Теоретическая часть 46
2.1.2. Экспериментальное исследование характеристик КЭУ и МКП 49
2.1.2.1. Детекторы на основе Z-сборки МКП 53
2.1.2.2. Каналовые электронные умножители 55
2.1.2.3. Детекторы на основе шевронной сборки МКП 57
2.1.2.4. Статистические свойства детекторов 59
2.1.2.5. Основные выводы 60
2.1.2.6. Детекторная система 61
2.2. Абсолютно калиброванный измеритель ЭУФ мощности для аттестации источников
излучения на 13,5 нм 65
2.2.1. Рентгенооптическая схема и состав измерителя мощности 66
2.2.2. Калибровка абсолютной чувствительности и применение прибора 70
2.2.3. Заключение 72
Глава 3 Генерация излучения 13,5 нм с помощью рентгеновской трубки 73
3.1. Общие принципы работы рентгеновской трубки 74
3.2. Программа расчета интенсивности рентгеновского излучения при электронном возбуждении 83
3.3. Разборные трубки для генерации 13,5 нм 97
3.3.1. Конструкция и основные характеристики универсальной РТ 98
3.3.2. Мощная рентгеновская трубка для ЭУФ микролитографа 100
3.4. Исследование угловых зависимостей интенсивности флуоресценции Si La линии 104
Глава 4. О возможности применения рентгеновской трубки для задач
проекционной ЭУФ литографии 13,5 нм 107
4.1. Экснерименталвные результаты 108
4.2. Дифракционная маска для исследования пространственного разрешения
фоторезистов 113
Глава 5. Методика диффузного рассеяния для изучения внутреннего
строения МС 117
5.1. Диффузное рассеяние рентгеновского излучения МС с коррелированными шероховатостями 119
5.2. Экспериментальные результаты 124
5.2.1. Изучения короткопериодных W/B4C МС 124
5.2.2. Обсуждение основных результатов, полученных для W/B4 С МС 129
5.2.3. Изучение Mo/Si МС 131
Основные результаты 135
Литература 136
Список публикаций автора 147
