Введение
Глава 1. Литературный обзор 17
1.1. Карбиды гафния и тантала 17
1.1.1. Структура и физико-химические свойства 17
1.1.2. Окислительная и абляционная стойкость карбидов гафния и тантала 20
1.1.3. Методы получения карбидов гафния и тантала 25
1.1.3.1. Способы получения порошков карбидов 25
1.1.3.2. Способы получения карбидных покрытий 30
1.2. Иридий 40
1.2.1. Структура и физико-химические свойства 40
1.2.2. Система иридий – углерод 43
1.2.3. Методы получения иридиевых покрытий 48
1.2.4. Интерметаллиды на основе иридия 51
1.3. Заключение 55
Глава 2. Термодинамическое моделирование 56
2.1. Термодинамическое моделирование гетерогенных систем M – C – F (M = Hf, Ta) 56
2.1.1. Расчёт гетерогенных равновесий в системе Ta – C – F 58
2.1.2. Расчёт гетерогенных равновесий в системе Hf – C – F 61
2.1.3. Сравнение систем Ta – C – F и Hf – C – F 63
2.2. Термодинамическое моделирование гетерогенных систем M – C – Si – O – F (M = Hf, Ta) 64
2.2.1. Расчёт гетерогенных равновесий в системе Ta – C – Si – O – F 65
2.2.2. Расчёт гетерогенных равновесий в системе Hf – C – Si – O – F 68
2.2.3. Сравнительный анализ гафний- и танталсодержащих систем 70
Глава 3. Экспериментальная часть 74
3.1. Исходные вещества 74
3.2. Методики экспериментов 74
3.2.1. Осаждение карбидов гафния и тантала RCVD методом 74
3.2.2. Осаждение иридиевых покрытий MO CVD методом 76
3.2.3. Реакционное осаждение тугоплавких соединений тантала и гафния на углеродные подложки с предварительно нанесенным на них покрытием из иридия 76
3.2.4. Твердофазное взаимодействие иридия с карбидами гафния и тантала 78
3.2.5. Проведение испытаний образцов в высокоскоростном потоке плазмы 79
3.3. Физико-химические методы исследования 80
Глава 4. Комплексные покрытия на углеродных подложках, осаждённые в последовательности «RCVD покрытие из тугоплавких соединений переходных металлов (гафния и тантала) – иридиевое покрытие, полученное MOCVD методом» 84
4.1. RCVD покрытие из тугоплавких соединений переходных металлов (гафния и тантала) на углеродных подложках 84
4.1.1. Процессы реакционного осаждения в системе Hf – C – F 84
4.1.2. Процессы реакционного осаждения в системе Hf– C – Si – O – F 88
4.1.3. Процессы реакционного осаждения в системе Ta – C – F 98
4.1.4. Процессы реакционного осаждения в системе Ta– C – Si – O – F 105
4.1.5. Выводы по разделу 4.1 109
4.2. Комплексные покрытия «MOCVD иридий/RCVD тугоплавкий карбид» на углеродных подложках 110
Глава 5. Комплексные покрытия на углеродных подложках, осажденные в последовательности «иридиевое покрытие, полученное MOCVD методом – RCVD покрытие из тугоплавких соединений гафния и тантала» 113
5.1. MOCVD иридиевые покрытия на углеродных подложках 113
5.1.1. Иридиевые покрытия на массивных углеродных подложках 113
5.1.2. Иридиевые покрытия на углеродных волокнах 115
5.2. Комплексные покрытия «RCVD тугоплавкие соединения, полученные из систем M – C – Si – O – F (M = Hf, Ta)/ MOCVD иридий» на углеродных подложках 120
5.3. Выводы по Главе 5 126
Глава 6. Исследование твердофазного взаимодействия тугоплавких карбидов тантала и гафния с иридием 128
6.1. Твердофазное взаимодействие в системе HfC – Ir 129
6.2. Твердофазное взаимодействие в системе TaC – Ir 136
6.3. Заключение по Главе 6 142
Глава 7. Окислительная и абляционная устойчивость Hf, Ir – И Ta, Ir – содержащих материалов 143
7.1. Физико-химическое исследование Hf, Ir и Ta, Ir – содержащих материалов 143
7.2. Изучение абляционной устойчивости Hf, Ir и Ta, Ir – содержащих материалов 147
7.2.1. Физико-химическое исследование гафнийсодержащего материала после абляции 147
7.2.2. Физико-химическое исследование танталсодержащего материала после абляции 148
7.3. Выводы по Главе 7 151
Выводы 153
Заключение 155
Список литературы 157
Приложение 1 197
Приложение 2 204
