Введение
1.Введение 5
2. Литературный обзор 9
2.1. Летучие соединения Ni и Co с C, P, N-донорными атомами 10
2.1.1. Основные классы комплексов Ni(II) и Со(II, III) с органическими лигандами 18
2.1.2. Комплексы Ni и Со c O,O-донорными атомами лигандами 18
2.1.1. Комплексы Ni и Со c N,N-донорными атомами 22
2.1.4. Комплексы Ni и Со с O,N-донорными атомами 33
2.1.5. Комплексы Ni и Со c O,S- и S,S-донорными атомами 38
2.2. Термические свойства соединений Ni и Со 42
2.2.1. Термическое поведение комплексов Ni и Co в конденсированной фазе 42
2.2.2. Измерение температурных зависимостей давлений насыщенного пара комплексов Ni и Со 46
2.3. Использование летучих соединений Ni и Co в MOCVD процессах 52
2.3.1. Получение биметаллических слоев на основе Co 55
2.4. Заключение 56
3. Экспериментальная часть 58
3.1. Синтез комплексов Ni(II) и Co(II) 59
3.1.1. Исходные реагенты и растворители 59
3.1.2. Объекты исследования и методики синтеза комплексов Ni(II) и Co(II) 60
3.1.2.1 Синтез иминокетонатов и комплексов Ni(II) и Co(II) с основанием Шиффа 61
3.1.2.2 Синтез аддуктов Ni(II) и Co(II) с пропилендиамином и2,2-диметилпропилендиамином 63
3.1.2.3 Синтез дииминатов Ni(II) и Co(II) 64
3. 2. Методы исследования и идентификации комплексов Ni(II) и Co(II) 66
3.2.1. Методы идентификации комплексов Ni(II) и Co(II) 66
3.2.2. Методы анализа Ni и Co-содержащих покрытий 69
3.3. Методы характеризации комплексов Ni(II) и Co(II) 71
3.3.1. Кристаллохимический анализ 71
3.3.2. Дипольные моменты аддуктов Ni(II) 71
3.3.3. Методы исследования термических свойств комплексов Ni(II) и Co(II)
3.2.3.1. Термогравиметрический метод 71
3.2.3.2. Дифференциально-сканирующая калориметрия 72
3.2.3.3. Измерение давления насыщенного пара методом потока 72
3.2.3.4. Измерение давления насыщенного пара статическим методом 73
3.3.3.1. Измерение давления пара методом Кнудсена 74
3.4. Осаждение Ni- и Сo-содержащих пленок методом MOCVD 74
3.4.1. Условия осажденияNi- и Сo-содержащих покрытий методом MOCVD 74
3.4.2. Подложки (материал, размер, методы очистки) 76
4. Результаты и обсуждение 77
4.1. Синтез и идентификация комплексов Ni(II) и Co(II) 77
4.1.1. Аддукты -дикетонатов Ni(II) и Сo(II) с пропилендиамином 77
4.1.2. Иминокетонаты Ni(II) и Сo(II) 80
4.1.3. Хелаты Ni(II) и Сo(II) с основанием Шиффа 81
4.1.4. Дииминаты Ni(II) и Сo(II) 83
4.2. Исследование кристаллических структур комплексов Ni(II) и Сo(II) 85
4.2.1 Аддукты -дикетонатов Ni(II) и Сo(II) c пропилендиамином 85
4.2.2. Имнокетонаты и дииминаты Ni(II) и Co(II) 87
4.2.3. Хелаты Ni(II) и Сo(II) с основанием Шиффа 90
4.3. Термические свойства комплексов Ni(II) и Сo(II) в конденсированной фазе 92
4.3.1 Аддукты -дикетонатов Ni(II) и Сo(II) c пропилендиамином 92
4.3.2. Иминокетонаты Ni(II) и Сo(II) 94
4.3.3. Хелаты Ni(II) и Сo(II) с основанием Шиффа 95
4.3.4. Дииминат Сo(II) 96
4.4. Давления насыщенного пара комплексов Ni(II) и Co(II) 97
4.5. Особенности процессов фрагментации хелатов Ni(II) 101
4.6. Получение никельсодержащих покрытий методом MOCVD 105
4.6.1. Характеристики никельсодержащих покрытий, полученных из предшественников с различными типами терминальных заместителей 105
4.6.2. Характеристики никельсодержащих покрытий, полученных из предшественников с различной комбинацией донорных атомов 109
4.7. Получение кобальтсодержащих покрытий методом MOCVD 111
4.7.1. Влияние температуры осаждения на магнитные свойства кобальтсодержащих покрытий 114
4.7.2. Влияние температуры испарителя на магнитные свойства кобальтсодержащих покрытий 117
4.8. Осаждение биметаллических слоев CoxPt(1-x) 119
5. Основные результаты и выводы 122
Литература 124
Благодарности
Приложение
