Введение
ГЛАВА 1 Приборно-реактроные среды энерго- и массо-обмена, частотно-спектральные требования к электротехнологическим комплексам 29
1.1. Постановка задачи 29
1.2. Низкотемпературная плазма - активатор физико - химических процессов 38
1.3. Особенности основных плазмообразующих газов 40
1.4. Активации процессов в неравновесной плазме 44
1.5. Повышение технологической эффективности низкотемпературной плазмы при использовании электромагнитных колебаний с различными частотно-спектральными характеристиками 54
1.6. Энергетические воздействия на низкотемпературную плазму детерминированного многочастотного колебания
типа меандр 62
Выводы 69
ГЛАВА 2 Обобщенный электротехнологический процесс (модельные представления) 74
2.1. Эквивалентные схемы замещения разряда 75
2.1.1. Трансформаторная электрическая эквивалентная схема замещения индукционного разряда 75
2.1.2. Электрическая эквивалентная схема замещения емкостного разряда 79
2.2. Обобщенное представление реакторных объемов любой конфигурации методом цепных аналогий 83
2.3. Аналитическая интерпретация модели обобщенного электронно-технологического процесса как части электротехнологического комплекса 97
Выводы 116
ГЛАВА 3 ВЧ источники питания электротехнологических комплексов и их элементная база 119
3.1. Источники питания на основе традиционных ламповых генераторов 119
3.2. Полигармонические ВЧ источники питания 129
3.3. Схемные методы оптимизации параметров мощных генераторов 140
3.4. Работа генератора в режимах многочастотной детерминированной генерации и автоколебательного шумообразования 147
3.5. Приборное обеспечение плазменных высокочастотных электротехнологий 156
3.5.1 Мощные приборы с сеточным управлением для промышленных целей. Анализ тенденций развития 159
3.5.2. Сетевые магнетроны. Анализ тенденций развития .174
ГЛАВА 4 Создание и исследование оптимальных режимов работы реакторных систем плазмотермической обработки изделий электронного приборостроения 195
4.1. Постановка задачи 195
4.1.1. Системы на базе объемных резонаторов СВЧ 196
4.1.2. Гибридные реакторные системы 199
4.1.3. Протяженные и дискретно распределенные плазменные реакторы 203
4.2. Источники энергии ВЧ плазмотронов 213
4.2.1. Емкостные генераторы плазмы 214
4.2.2. Индукционные генераторы плазмы 219
4.2.3. Гибридные генераторы плазмы 223
4.2.4. Многоканальные генераторы плазмы 227
Выводы 270
ГЛАВА 5. Модельные представления и реальные электронно-физические и электронно-технологические процессы в приборостроении 275
5.1. Оптимизация процессов высокочастотной термин 275
5.2. ВЧ(СВЧ) плазмотермия, оптимизация методов деструкции полимеров 296
5.2.1. Нагрев временной полимерной пленки 304
5.2.2. Плазмохимическая реакция травления 313
5.3. Высокочастотное возбуждение активной среды газовых лазеров технологического назначения 322
5.3.1. Энергетическая модель активной среды лазера 324
5.3.2.Использование явления вторичной электронной эмиссии при создании лазерной плазмы 334
5.3.3. Измерение ненасыщенного показателя усиления газового лазера с ВЧ возбуждением 342
5.3.4. Высокочастотные источники питания газовых лазеров технологического назначения 346
Заключение 375
Список литературы 378
Приложения 401
