Введение
Глава 1. Основные результаты исследований тлеющих разрядов с осциллирующими электронами 12
1.1. Область и количественная мера эффекта полого катода 12
1.2. Энергетический спектр электронов, оптические характеристики, влияние температуры катода и неравновесность разрядной плазмы 30
1.3. Вторичные процессы возбуждения и ионизации в разряде и в послесвечении, влияние катодного распыления 52
1.4. Отличия разряда с полым катодом в магнитном поле от магнетронного и отражательного разрядов 57
1.5. Процессы в катодном слое разряда и его реакция на инжекцию в полый катод электронов и ионов 62
1.6. Разряд с разнопотенциальными катодами, роль различных видов электронной эмиссии и пучково-плазменных взаимодействий 64
1.7. Переход тлеющего разряда в дугу, сверхплотный тлеющий разряд и колебания в плазме разряда 67
1.8. Выводы 71
Глава 2. Влияние потерь энергии эмитированных катодом электронов на характеристики и нижнее рабочее давление разряда 74
2.1. Столки овительная релаксация энергии быстрых электронов в газе . 75
2.2. Зависимость потерь катодных электронов от геометрических параметров электростатической ловушки 81
2.3. Анализ траекторий катодных электронов в магнитном поле 86
2.4. Визуализация траекторий катодных электронов 89
2.5. Инверсия разряда с цилиндрическим полым катодом в магнитном поле 95
2.6. Электростатические ловушки с переменной толщиной катодного слоя 102
2.7. Многостержневые электростатические ловушки 108
2.8. Снижение рабочего давления газа в разряде с катодом-лабиринтом . Ill
2.9. Снижение рабочего давления газа в разряде с полым катодом 116
2.10. Снижение рабочего давления ТРЭУЭ в магнитном поле 123
2.11. Выводы 128
Глава 3. Зависимость характеристик ТРЭУЭ от расположения анода, размеров ловушки и ее выходной апертуры 131
3.1. Положительное анодное падение и двойной электростатический слой в ТРЭУЭ 131
3.2. Распад анодной плазмы двойного слоя 141
3.3. Зависимость формы и площади поверхности двойного слоя от геометрических параметров отверстия ловушки 150
3.4. Стабилизация эмитирующей электроны поверхности плазмы ТРЭУЭ вблизи отверстия ловушки 156
3.5. Большие и малые электростатические ловушки 163
3.6. Выводы 168
Глава 4. Размножение быстрых электронов в катодном слое разряда 172
4.1. Отбор быстрых электронов из полого катода закрытой формы 173
4.2. Доля ионизации в катодном слое разряда с цилиндрическим полым катодом 180
4.3. Специфические свойства ТРЭУЭ 186
4.4. Ионизация газа электронами, образованными в катодном слое 192
4.5. Вольтамперные характеристики и подобие ТРЭУЭ в среднем диапазоне давления области ЭЭЛ 199
4.6. Выводы 203
Глава 5. ТРЭУЭ при значительных потерях энергии эмитированных катодом электронов 206
5.1. Нижнее граничное давление области ЭЭЛ 206
5.2. Снижение разрядного напряжения при увеличении эмиссии электронов на катоде 208
5.3- Сильноточный ТРЭУЭ в нижнем диапазоне давления области ЭЭЛ . 218
5.4. Зависимость ТРЭУЭ от состояния газа и катодного распыления 224
5.5. Особенности ТРЭУЭ с катодным падением потенциала до 30 кВ 228
5.6. Выводы 232
Глава 6. Практическое использование результатов исследований 234
6.1. Электронные пушки с широким плазменным эмиттером 234
6.2. Плазменно-иммерсионная обработка проводящих подложек 236
6.3. Источники широких пучков быстрых нейтральных молекул 240
6.4. Универсальные источники широких пучков электронов и быстрых молекул, совмещенных с потоком металлического пара 240
Заключение 242
Литература 246
