Введение
Глава 1 Низкотемпературная плазма и ее применение для нанесения покрытий 11
1.1 Методы нанесения тонкопленочных покрытий 11
1.2 Аномальный тлеющий разряд в скрещенных электрическом и магнитном полях в технологических процессах нанесения покрытий 17
1.3 Характеристики покрытий нанесенных при помощи магнетроннои распылительной системы 30
1.4 Постановка задачи 38
Глава 2 Экспериментальная установка и методика исследований 39
2.1 Экспериментальная установка с магнетроннои распылительной системой 39
2.2 Измерительная аппаратура, методика проведения экспериментов и оценка погрешности измерений 47
2.3 Система фотометрического контроля толщины покрытий 53
2.4 Методы исследования покрытий 55
Глава 3 Теоретические и экспериментальные исследования разряда в магнетроннои распылительной системе в процессе нанесения покрытий 63
3.1 Электрические и энергетические характеристики магнетроннои распылительной системы 63
3.2 Характеристики тонкопленочных покрытий в зависимости от параметров разряда 69
3.3 Математическая модель прикатодной области аномального тлеющего разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях в процессе нанесения покрытий 80
3.4 Синтез оптических покрытий 87
Глава 4 Получение тонкопленочных покрытий с помощью магнетронной распылительной системы 100
4.1 Защитное покрытие, увеличивающее отражение 100
4.2 То ко проводящее покрытие 104
4.3 Теплоотражающее покрытие 109
4.4 Неослепляющее покрытие 113
Выводы 118
Библиографический список использованной литературы
