Атомные и электронные процессы на поверхности полупроводников и границах раздела металл-полупроводник

Куянов Игорь Александрович. Атомные и электронные процессы на поверхности полупроводников и границах раздела металл-полупроводник : диссертация ... доктора физико-математических наук : 01.04.07.- Владивосток, 2006.- 290 с.: ил. РГБ ОД, 71 07-1/73
Автор
Куянов Игорь Александрович
Год
2006
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации
Введение
1 Адсорбция неметаллов на поверхности кремния 22
1.1 Введение 22
1.2 Формирование ПФ Si(lll)(\/3 х \/3)Я30-В 24
1.3 Взаимодействие атомов фосфора на Si(100) 33
1.4 Адсорбция и диссоциация молекул триметилфосфина на Si(l 11)7x7 . 39
1.5 Атомное строение ПФ Si(100) а-с(4 х 4)-В 48
1.6 Основные результаты 53
2 Сегрегация неметаллов вблизи поверхности кремния 55
2.1 Введение 55
2.2 Сегрегация бора на Si(lll): кластерный подход 57
2.3 Сегрегация бора на Si(lll): зонный подход 60
2.4 Сегрегация бора на Si(100): кластерный подход 64
2.5 Сегрегация бора на Si(100): зонный подход 68
2.6 Сегрегация фосфора на Si(100) 72
2.7 Основные результаты 74
3 Адсорбция металлов на поверхности кремния 75
3.1 Введение 75
3.2 Адсорбционная система Al/Si(l 11) 77
3 2.1 Электронная структура ПФ Si(lll)(\/3 х v/3)fi30-Al 78
3.2 2 Электронная структура ПФ Si(lll)(\/7 х \/7)Ш91-А\ 82
3.2.3 7-фаза Al-Si(lll) 84
3.2.4 Процессы в атомной и электронной структуре при смене ПФ в системе Al/Si(lll) 90
3.3 Поведение неупорядоченного монослоя А1 на Si(100)2xl 94
3.4 Адсорбционная система Tl/Si(100) 97
3.4.1 ПФ а-2х2-Т1 99
3.4.2 ПФ -2х2-Т1 100
3.4.3 ПФ 7-2х2-Т1 102
3.4.4 ПФ 2х1-Т1 при комнатной и пониженной температурах 104
3.4.5 Смена ПФ в системе Tl/Si(100) и сопутствующие процессы в атомной и электронной структуре 108
3.5 Адсорбционная система Au/Si(lll) 114
3.5.1 Адсорбция изолированных атомов Au на Si(l 11) 115
3.5.1.1 Электронная структура и спектры ФЭС 117
3.5.2 Перемешивание на границе раздела Au/Si(lll) при монослойном покрытии Au 121
3.6 Основные результаты 124
4 Электронная структура системы металл—кремний 126
4.1 Введение 126
4.2 Влияние атомного строения границы раздела металл—кремний на электронную структуру системы 128
4.2.1 Al/Si(lll) 129
4.2.2 Au/Si(lll) 135
4.2.2.1 Тонкая пленка Au на Si(lll) 135
4.2.2.2 Силицидоиодобное соединение АіцБі на Si(l 11) 137
4.3 Влияние примеси на величину барьера Шоттки 140
4.3.1 Легирование кремния в системе Al/Si(lll) 142
4.3.2 Управление величиной барьера Шогтки при вторичном легировании кремния в системе Al/n-Si 150
4.4 Основные результаты 158
5 Туннельный ток в поверхностных системах и наноразмерных контактах "металл — кремний" 159
5.1 Введение 159
5.2 Моделирование спектров СТС ПФ Si(lll)(V5 х х/3)Л30-В 161
5.3 Влияние взаимодействия игла-образец на данные СТС 165
5.4 Туннельный ток в наноразмерном контакте Al/Si(lll) 173
5.5 Основные результаты 178
6 Атомная структура поверхности ТЮ2(П0) при ненулевых температурах 179
6.1 Введение 179
6.2 Тестовые результаты для объемного диоксида титана и поверхности ТіО2(П0) 182
6.3 Поведение поверхности ТіОгСіЮ) при ненулевых температурах 188
6.4 Атомная релаксация ступени наТЮг(НО) 192
6.5 Разрушение ступени на ТЮ2(110) при Т = 500 К 197
6.6 Основные результаты 205
Основные результаты и выводы 207

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Шкаликов Николай Викторович
Количество страниц
Год
2010
99 000 UZS
Автор
Андреев Илья Александрович
Количество страниц
Год
2008
99 000 UZS
Автор
Назаренко Елена Сергеевна
Количество страниц
Год
2006
99 000 UZS
Автор
Емельянов Александр Юрьевич
Количество страниц
Год
2001
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3