Введение
Глава 1. Вычислительное моделирование плазмохимических реакторов травления 22
1. Плазмохимические реакторы травления 22
1.1. Плазмохимические реакторы в технологии производства микроэлектронных устройств 22
1.2. Характеристики плазмохимического травления 25
1.3. Требования к качеству обработки полупроводниковых подложек 30
2. Математические модели плазмохимических реакторов 33
2.1. ВЧ-разряд и плазменная кинетика в реакторе 33
2.2. Модели химической кинетики 36
2.3. Моделирование гидродинамики и тепломассообмена 48
3. Проблемы численного моделирования и оптимизации процесса травления в ПХР 68
Глава 2. Развитие физико-математической модели плазмохимического реактора 72
1. Гидродинамика 72
2. Теплообмен 75
3. Структура ВЧ-разряда 77
4. Кинетика химических реакций в ВЧ-разряде в CF\ и CFA/02 78
5. Массообмен 81
6. Метод решения 84
Глава 3. Численная оптимизация плазмохимических реакторов травления 92
1. Оптимизация скорости и однородности травления в изо термическом планарном плазмохимическом реакторе . 94
1.1. Постановка задачи и основные уравнения 95
1.2. Результаты численного моделирования 105
Выводы 120
2. Эффекты неизотермичности в плазмохимическом реакторе травления 121
2.1. Постановка задачи и основные уравнения 123
2.2. Результаты численного моделирования 130
Выводы 139
3. Численный расчет плазмохимического реактора пониженного давления 141
3.1. Постановка задачи и основные уравнения 142
3.2. Результаты численного моделирования 145
Выводы 152
4. Сравнение моделей кинетики для тетрафторметана . 154
4.1. Постановка задачи и основные уравнения 156
4.2. Результаты численного моделирования 166
Выводы 183
5. Особенности интенсификации травления кремния в плазме CFA/02 185
5.1. Постановка задачи и основные уравнения 186
5.2. Результаты численного моделирования 200
Выводы 207
Заключение 209
Литература 211
