Физические основы процессов образования наночастиц в ВЧ разряде атмосферного давления

Мишин Максим Валерьевич. Физические основы процессов образования наночастиц в ВЧ разряде атмосферного давления: диссертация ... кандидата физико-математических наук: 01.04.04 / Мишин Максим Валерьевич;[Место защиты: Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого].- Санкт-Петербург, 2015.- 270 с.
Автор
Мишин Максим Валерьевич
Год
2015
  • 99 000 UZS

Оглавление диссертации
Введение
1. Выбор объекта исследования 11
1.1. Источники низкотемпературной неравновесной плазмы 12
1.2. Применение низкотемпературной неравновесной плазмы атмосферного давления для получения наноматериалов 27
1.3. ВЧ - разряды атмосферного давления: теория и применение 52
1.4. Выводы к главе 1 74
2. Параметры синтеза 76
2.1. Экспериментальный прибор 76
2.2. Электрические параметры разряда 82
2.3. Температура ионной компоненты плазмы 92
2.4. Концентрация, электронная температура, потенциал плазмы 96
2.5. Распределение концентрации ионов и электрического потенциала вне разрядного промежутка 108
2.6. Физическая модель 125
2.7. Выводы к главе 2 129
3. Синтезируемые частицы 131
3.1. Состав синтезируемых частиц 131
3.2. Силы, действующие на частицы 135
3.3. Частицы в области газоразрядной плазмы 140
3.4. Нейтральные частицы вне области газоразрядной плазмы 146
3.5. Заряженные частицы вне области газоразрядной плазмы 156
3.6. Выводы к главе 3 161
4. Управление размером формируемых микрочастиц 163
4.1. Методика измерения размера и количества микрочастиц 163
4.2. Распределение потенцила в области управляющего электрода 167
4.3. Распределение макрочастиц по размерам при изменении профиля электрического потенциала 174
4.4. Выводы к главе 4 181
5. Агломерация наночастиц на поверхности. агломерация первог типа 183
5.1. Численное моделирование процесса агломерации первого типа 184
5.2. Выводы к главе 5 197
6. Агломерация частиц на поверхности. агломерация второго типа 199
6.1. Экспериментальные закономерности формирования фрактальных структур 199
6.2. Физическая модель формирования фрактальных структур 206
6.3. Численное моделирование процесса формирования неоднородного профиля электрического потенциала на поверхности осадка из наночастиц 212
6.4. Численное моделирование процесса агломерации второго типа 224
6.5. Выводы к главе 6 230
Общее заключение и выводы 231
Список используемой литературы

Рекомендуем вам товары

99 000 UZS
Автор
Степанов Антон Сергеевич
Количество страниц
Год
2014
99 000 UZS
Автор
Бурмистрова Ангелина Владимировна
Количество страниц
Год
2014
99 000 UZS
Автор
Евлашин Станислав Александрович
Количество страниц
Год
2014
99 000 UZS
Автор
Аль-Тхуаели Садек Али Мохаммед
Количество страниц
Год
2013
Модули для Opencart 2, Опенкарт 3