Введение
ГЛАВА 1. Парофазное химическое осаждение - метод форми рования пленок для электроники (Обзор литературы) 15
1. Важнейшие аспекты ПФХО покрытий для электроники 16
2. Фундаментальные основы метода ПФХО с использованием металлооргани-ческих соединений (МОС) 20
2.1. Особенности термораспада МОС. 21
2.2., Специфика гетерогенных реакций распада МОС. 22
2.3. Кинетические особенности процесса ПФХО с участием МОС 24
3. ПФХО покрытий для электроники 26
3.1. Получение пленок оксидов методом ПФХО из МОС 26
3.2. Формирование слоев оксинитрида кремния в процессе деструкции КОС в присутствии азотсодержащих соединений. 30
3.2.1. Термическое ПФХО пленок оксинитрида кремния 30
3.2.2. Плазменное осаждение пленок оксинитрида кремния 32
3.2.3. Оксидирование кремния в среде N20 34
3.2.4. Термическое азотирование пленок S1O2 , 35
3.3. ПФХО тонких пленок металлов и силицидов металлов. 38
3.3.1. Основные аспекты процессов получения силицидов 38
3.3.2. ПФХО пленок вольфрама и силицида вольфрама. 45
3.3.3. Получение пленок молибдена и силицида молибдена 50
3.3.4. Осаждение металлических и силицидных пленок титана и циркония 55
3.3.5. ПФХО пленок никеля и силицида никеля. 58
3.3.6. Получение пленок силицидов разложением соединений
со связями кремний-металл 60
4. Направление исследований и постановка задачи 61
ГЛАВА II. Осаждение оксидных пленок на полупроводниковых подложках методом пфхо с использованием МОС 66
1. Методика осаждения оксидных пленок пиролизом МОС и методы их исследования 66
2. Получение оксидных слоев ПФХО с использованием ацетилацетонатов алюминия, галлия, индия ,.67
2.1. Осаждение оксидных пленок пиролизом ацетилацетонатов алюминия, галлия и индия на воздухе однозонным методом 70
2.2. Получение оксидных покрытий из ацетилацетонатов алюминия, галлия и индия двухзонным способом 75
2.3. Влияние температуры на МО CVD-процесс получения пленок притермодеструкции ацетилацетоната индия 81
2.4. Влияние природы окислителя на процесс роста пленок при термораспаде ацетилацетоната индия 88
3. ПФХО оксидных пленок пиролизом алкильных производных галлия и сурьмы 93
3.1. Осаждение пленок оксида галлия при пиролизе эфирата триметилгал-лия 94
3.2. ПФХО слоев оксида сурьмы из алкилов сурьмы 95
4. ПФХО оксидных покрытий с использованием алкоксидов сурьмы и висмута 100
5. Формирование оксидных покрытий на полупроводниках методом МО
CVD с использованием алкилгалогенидов алюминия, галлия и индия 102
6. Электрофизические свойства оксидных пленок, полученных методом МО
CVD 107
7. Кинетика и механизм процесса формирования оксидных МО CVD-слоев , ПО
ГЛАВА III. Формирование оксинитридных пленок методом пфхо с использованием кремнийорганических и металло-органических соединений в присутствии азотсодержащих примесей 114
1. Методика формирования диэлектрических покрытий пиролизом КОС и аце-тилацетоната алюминия в присутствии азотсодержащих соединений и методы исследования их состава и свойств П4
2. Влияние оксида азота (1) и аммиака на процесс осаждения пленок на крем нии при термодеструкции гексаметилдисилазана 116
3 Особенности ПФХО пленок оксинитрида кремния на кремнии при пиролизе гексаметилдисилоксана в присутствии оксидов азота (1) и (П) или диэтиламина , 126
4. Формирование пленок на кремнии при термодеструкции триметилхлорсилана в присутствии оксида азота (1) и аммиака ...136
5. ПФХО пленок пиролизом трис-ацетилацетоната алюминия в присутствии диэтиламина ... 141
6. Электрофизические свойства оксинитридных слоев 144
7. Закономерности влияния азотсодержащих добавок на CVD-процесс формирования слоев оксинитрида кремния 147
ГЛАВА IV. Новые процессы осаждения проводящих пленок на полупроводниковых подложках методом cvd при тер модеструкции МОС и КОС 152
1. Методика осаждения и исследования проводящих слоев 152
2. Формирование проводящих слоев на кремнии методом ПФХО при термораспаде карбонилов хрома, молибдена, вольфрама. .158
3. Получение проводящих покрытий при пиролизе карбонилов хрома, молиб дена и вольфрама в присутствии кремнийорганических соединений 169
4. Формирование пленок силицида никеля при совместном пиролизе ацетил-ацетоната никеля и КОС. 181
5. ПФХО проводящих пленок при термо деструкции бисциклопентадиенилди- хлоридов титана и циркония 193
6. ПФХО проводящих пленок на подложках Si, GaAs, ЬіР и InAs при деструк ции карбонила молибдена в тлеющем разряде 202
7. Формирование проводящих пленок при термораспаде кремнийсо держащих ферроценовых соединений. 209
8. Влияние природы МОС, температуры процесса и материала подложки на процесс формирования проводящих пленок из МОС 218
ГЛАВА . Заключение. 223
1. Процессы формирования диэлектрических оксидных МО CVD пленок... 223
2. Процессы CVD-формирования диэлектрических оксинитридных пленок 227
3. Процессы формирования проводящих металлических и силицидных МО CVD-слоев 232
4. Прогнозирование формирования функциональных слоев с заданными свой ствами 240
Основные выводы... 244
Литература
