Введение
1 . Основные закономерности процесса фототравления полимерными фоточувствительными композициями (обзор литературы) 9
1.1. Влияние различных факторов на протекание процесса фототравления 9
1.2. Механизм фотолитического травления 15
1.3. Влияние ионов металлов и оксидов металлов на фотоокисление полимеров 15
1.4. Закономерности протекания фотодеструкции полимерных композиций для фототравления 18
1.5. Постановка задачи исследования 27
2. Экспериментальная часть 30
2.1. Подготовка исходных реактивов 3 0
2.1.1. Очистка поливинилхлорида 31
2.1.2. Очистка растворителей 32
2.2. Изготовление фотошаблонов 32
2.3. Подготовка поверхности образцов к фототравлению 34
2.4. Подготовка составов для фототравления и нанесение их на поверхность образцов 35
2.5. Фототравление образцов 35
2.6. Удаление фотоактивной пленки и продуктов фототравления с поверхности дифракционной решетки 36
2.7. Определение состава продуктов фототравления меди 37
2.8. Методика измерения толщины фотоактивного слоя, наносимого на образец, и контроля качества поверхности меди 38
3. Основные закономерности процесса фототравления поверхности меди 41
3.1. Выбор и исследование составов для удаления продуктов фототравления меди 41
3.2. Влияние различных факторов на процесс фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями 50
4. Расчет фазовых отражательных дифракционных решеток 62
5. Исследование кинетических закономерностей процесса фототравления поверхности меди 71
5.1. Анализ сравнительной устойчивости радикалов, образующихся под действием УФ-облучения 71
5.2. Исследование кинетики образования продуктов реакции фототравления поверхности меди 75
Выводы 83
Литература
