Введение
Глава I. СВЧ установки, применяемые для осаждения тонких плёнок на больших площадях 8
1.1 Введение 8
1.2 Классическая установка с рабочей камерой резонаторного типа 9
1.3 Установки со щелевыми антеннами 13
1.4 Использование электронного циклотронного резонанса (ЭЦР) для ввода СВЧ энергии в плазму в установках для роста тонких плёнок 14
1.5 Дисковые реакторы 16
1.6 Создание плазмы в реакторе при помощи замедляющих систем 18
1.7 Использование поверхностных волн для создания плоского слоя плазмы 19
1.8 Другие принципы ввода СВЧ энергии в камеру для увеличения площади обрабатываемой поверхности 21
Глава II. Осаждение тонких углеродных плёнок 22
2.1 Экспериментальная установка 22
2.2 Система регистрации спектров плазмы 23
2.3 Связь эмиссионных характеристик плазмы со структурой плёнки 28
2.3.1 Условия эксперимента 29
2.3.2 Эксперименты по росту легированных алмазных плёнок 31
2.3.3 Эксперименты по росту углеродных нанотруб 35
2.4 О низкотемпературном осаждении нанографитовых структур 38
2.4.1 Низкотемпературный рост углеродных плёнок 40
2.4.2 Исследование влияния состава газовой смеси на структуру осаждаемых плёнок 44
2.5 Выводы 46
Глава III. Исследование импульсного режима возбуждения плазмы 47
3.1 Введение 47
3.2 Плазмохимия углерод - водородного газового СВЧ разряда 50
3.3 Исследование влияния параметров импульсов на состав плазмы 56
3.4 Влияние параметров импульсов на морфологию плёнок 61
3.5 Влияние импульсного режима на стабильность разряда 63
3.6 Оценка газовой температуры 64
Глава IV. Экспериментальная многомагнетронная установка 70
4.1 Экспериментальная многомагнетронная установка для получения СВЧ плазмы 71
4.2 Метод оценки равномерности распределения плазмы с помощью ОЭС . 81
Глава V. Исследование однородности разряда в многомагнетронном реакторе 84
5.1 Модельные эксперименты в нерезонансном реакторе 84
5.2 Исследование работы многомагнетронной системы 86
5.2. J Первоначальное исследование поведения разряда 86
5.2.2 Диапазон рабочих давлений 89
5.2.3 Исследование спектрального состава плазмы 92
5.2.4 Эффект суперпозиции рабочих циклов магнетронов 95
5.2.5 Влияние подложкодержателя на положение разряда 96
5.2.6 Зависимость однородности разряда от основных макропараметров процесса 97
5.2.7 Исследование однородности разряда 102
5.2.8 Однородность пленок, осаждённых на многомагнетронной установке 106
5.3 Выводы 107
Глава VI. Применение алмазных плёнок в качестве алмазных мембран для усиления электронного потока 110
6.1 Введение
6.2 Подготовка образцов 112
6.3 Эксперименты по вторичной эмиссии и обсуждение результатов 113
6.4 Выводы 120
Выводы 123
Благодарности 126
Литература 127
