Введение
Глава I. Диагностика плазмы в процессе осаждения тонких углеродных пленок 9
1.1 Введение 9
1.2 Установка газофазного осаждения углеродных пленок, 14
1.3 Спектроскопическая система 17
1.4 Оценка газовой температуры по излучению молекулы Hi 24
1.5 Оценка газовой температуры по излучению радикалов СН и Сз 33
1.6 Оценка электронной температуры по атомарным линиям водорода 40
1.7 Влияние соотношения интенсивностеи эмиссионных линий радикалов СН и Сг на параметры осаждаемых тонких углеродных пленок 41
1.8 Выводы 46
Глава II. Осаждение легированных бором алмазных пленок с высокой плотностью центров нуклеации 47
2.1 Введение 47
2.2 Получение тонких легированных бором алмазных пленок 49
2.3 Исследование химической стойкости проводящих алмазных покрытий 53
2.4 Выводы 58
Глава III Сильноточная электронная пушка на основе алмазной сетки, легированной бором и автоэмиссионного катода 60
3.1 Введение 60
3.2 Селективное осаждение легированных бором алмазных пленок 64
3.3 Исследование легированной бором алмазной решетки в качестве вытягивающей сетки электронной пушки 66
3.4 Выводы 69
Глава IV. Влипни с дсйтсрироваиия на электронные свойства легированных бором алмазных пленок 71
4.1 Введение 71
4.2 Получение дейтерированных легированных бором алмазных пленок»..72
4.3 Исследование дейтерированных легированных бором алмазных пленок 75
4.4 Выводы 78
Выводы 79
Благодарности 81
Литература
