Введение
Глава 1, Основные методы нанесения покрытий в вакууме 12
1.1. Получение в вакууме пара осаждаемого материала 13
1.2. Активация поверхности подложки и повышение подвижности атомов осаждаемого покрытия 28
1.3. Источники ионов для сопровождения осаждения покрытий 32
1.4. Характеристики тлеющего разряда в трех диапазонах давления области эффекта электростатической ловушки (ЭЭЛ) 43
1.5. Зависимость характеристик тлеющего разряда с электростатическим удержанием электронов (ТРЭУЭ) от расположения анода и площади его поверхности 49
1.6. Влияние на ТРЭУЭ катодного распыления 52
1.7. Получение с помощью ТРЭУЭ плазменного эмиттера ионов 56
1.8. Источники быстрых нейтральных атомов и молекул 60
1.9. Выводы 61
Глава 2. Характеристики источников широких пучков быстрых молекул с объемом электростатической ловушки 0,01 -0.1 MJ 63
2.1, Взаимозависимость плазменного эмиттера источника и вторичной плазмы за эмиссионной сеткой в среднем диапазоне области ЭЭЛ 64
2.2, Исследование зависимости верхней границы рабочего диапазона давления источника от геометрических параметров ловушки и сетки 81
2.3, Зависимость угла расходимости ускоренных частиц от первеаисалучка и геометрических параметров сетки 87
2.4, Зависимость от давления газа распределения тока пучка по его сечению 94
2.5. Предотвращение перехода сильноточного тлеющего разряда в дугу в мощных источниках с секционированными катодами и сетками 97
2.6. Выводы 99
Глава 3. Условия поддержания разряда с электростатическим удержанием электронов в источниках с малым объемом ловушки 0,001 - 0,01 мJ 103
3.1. Исследование зависимости тока и катодного падения разряда от тока и энергии бомбардирующих катод электронов 105
3.2. Зависимость характеристик разряда от потенциала погруженной в плазменный эмиттер мишени 119
3.3. Предотвращение распада анодной плазмы двойного слоя в источниках с перепадом давления между полым анодом и ловушкой 127
3.4. Выводы 136
Глава 4. Практическое применение результатов исследований 137
4.1. Травление поверхности быстрыми атомами и молекулами 137
4.2. Сопровождение осаждения покрытий медленными молекулами 148
4.3. Нагрев, травление и осаждение покрытий с помощью универсальных источников электронов, быстрых молекул и металлического пара 153
4.4. Выводы 164
Заключение 165
Литература 166
