Введение
Глава 1. Проблемы создания свободновисящих тонкоплёночных структур (литературный обзор) 14
Глава 2. Методы изготовления и исследования свойств тонкоплёночных структур
2.1. Методика изготовления свободновисящих плёнок 29
2.1.1 Установка магнетронного распыления 29
2.1.2. Расчёт пропускания и отражения от многослойных структур в MP и ЭУФ диапазоне 33
2.1.3. Учёт наличия примесей в плёнке 37
2.1.4. Методы отделения плёнки от подложки 40
2.2. Методика долговременного отжига свободновисящих плёнок 49
2.2.1 Стенд для проведения долговременного отжига свободновисящих плёнок
2.2.2. Определение излучательной способности плёнок 52
2.2.3. Подготовка образцов для термических испытаний 56
2.3. Методика испытания свободновисящих плёнок на механическую прочность
2.3.1. Стенд для испытаний плёнок на механическую прочность 57
2.3.2. Результаты испытаний прочности плёночных фильтров 59
Глава 3. Тонкоплёночные фильтры на поддерживающих сетках для ЭУФ астрономии 63
3.1. Требования к фильтрам для солнечных телескопов 63
3.2. Многослойные фильтры Al/Si 65
3.3. Многослойные фильтры Zr/Si
3.4. Пропускание системы фильтров (входных фильтров и фильтров детекторов) для телескопов обсерватории ТЕСИС 73
3.5. Al/Si фильтры на поддерживающих сетках с шагом 5 мм для ракетного эксперимента Hi-C (NASA) 74
3.6. Многослойные фильтры на основе Mg 3.6.1. Mg/Al фильтр на длину волны 58.4 нм 77
3.6.2. Особенности метода напыления на свободновисящую плёнку 81
3.7. Изучение термической стабильности многослойных фильтров Al/Si 84
Глава 4. Термически стойкие фильтры для проекционной ЭУФ литографии 88
4.1. Требования, предъявляемые к фильтрам для установок проекционной литографии на длине волны 13.5 нм 88
4.2. Изучение термической стабильности фильтров Zr/Si
4.2.1. Термостойкость Zr/Si структур при токовом нагреве в вакууме 89
4.2.2. Изучение эффективности защитных покрытий В4С, Ru 96
4.2.3. Снижение тепловой нагрузки на Zr/Si фильтр при нагреве в атмосфере водорода 99
4.3. Изучение термической стабильности Zr/ZrSi2 фильтров 100
4.3.1. Стенд лазерного отжига 100
4.3.2. Влияние толщины прослоек ZrSi2 на характер окисления Zr/ZrSi2 структур при вакуумном отжиге 102
4.3.3. Сравнение эффективности защитных покрытий ZrSi2 и MoSi2 103
4.3.4. Кристаллизация в слоях MoSi2 105
4.4. Изучение термической стабильности фильтров на основе Мо 108
4.4.1. Термостойкость Mo/Si структур 108
4.4.2. Термостойкость Mo/ZrSi2 структур с MoSi2 защитными покрытиями. 112
4.4.3. Изучение эксплуатационной стойкости фильтра при длительных тепловых нагрузках 119
4.4.4. Прототип большеапертурного Mo/ZrSi2 фильтра с MoSi2 защитными
покрытиями 123
Основные результаты 125
Литература
