Введение
1. Обзор литературных источников 9
1.1. Способы получения биаксиальной текстуры в ВТСП слоях 10
1.2. Методы роста эпитаксиальных ВТСП пленок 17
1.3. Строение буферных слоев для подложек RABiTS 24
1.4. Изучение факторов, приводящих к падению критической плотности тока 33
1.5. Модельные представления о поведении критической плотности тока 41
1.6 Многослойные эпитаксиальные структуры ВТСП-интерслой-ВТСП 48
2. Методическая часть 59
2.1. Импульсное лазерное осаждение 59
2.2. Аналитические методики 60
3. Экспериментальные результаты и их обсуждение 66
3.1. Изучение особенностей формирования затравочного буферного слоя на
текстурированных подлжках Ni-W 67
3.2. Исследование пленок YBa2Cu3Ox с различной толщиной 95
3.3. Сопоставление экспериментальных результатов с модельными представлениями 99
3.4. Анализ экспериментальных факторов, наблюдаемых при увеличении толщины ВТСП пленок 104
3.5. Формирование эпитаксиальных структур ВТСП-интерслой-ВТСП 115
Заключение 124
Основные результаты и выводы 126
Список сокращений и условных обозначений 129
Список литературных источников 130
