Введение
Глава 1. Неустойчивость тока в многослойных твердотельных структурах 12
1.1 Динамические неоднородности электрического тока в неоднородных твердотельных структурах 12
1.2 Условия возникновения неустойчивости тока в твердотельных структурах 18
1.3 Поверхностно - барьерная и рекомбинационная неустойчивость тока 22
1.4 Неустойчивость тока в твердотельных структурах с распределенным эмиттерным переходом. 27
Глава 2. Методика исследования неустойчивости тока в многослойных твердотельных структурах 33
2.1 Элементы на основе многослойных структур с инжекционной неустойчивостью 33
2.2 Изготовление элементов многослойных структур 36
2.3 Методика исследования электрофизических и фотоэлектрических свойств 40
Глава 3. Экспериментальное исследование эле и фотоэлектрических характеристик структур с распределенным эмиттерным переходом 47
3.1 Статические и импульсные вольтамперные характеристики структур 47
3.2 Фотоэлектрические свойства структур с распределенным эмиттерным переходом 73
3.3 Температурные характеристики Туннелистора и Биспина 76
3.4 Исследование полного дифференциального сопротивления структур с распределенным эмиттерным переходом от напряжения на активном контакте 81
Глава 4. Феноменологическая модель процессов неустойчивости электрического тока в многослойных структурах 92
4.1 Уравнения, описывающие неравновесные процессы в структуре с распределенным эмиттерным переходом 92
4.2 Уравнение полной динамической системы для многослойных структур 111
4.3 Анализ СРП структуры как полной динамической системы 116
4.4 Численное решение динамических уравнений колебательной системы 123
Глава 5. Использование неустойчивости тока для создания приборов функциональной электроники 134
5.1 Функциональные приборы на основе структур с распределенным эмиттерным переходом ... 134
Заключение 150
Литература 152
