Введение
Глава 1 Модификация прибора, создающего высоко вольтный газовый разряд для решения задач очистки поверхности подложек 11
1.1 Анализ приборов, формирующих высоковольтный газовый разряд 12
1.2 Исследование механизмов формирования низкотемпературной плазмы высоковольтным газовым разрядом 16
1.3 Модификация конструкции высоковольтного газоразрядного прибора 22
Глава 2 Создание метода и прибора для трибомет рического контроля чистоты поверхности 33
2.1 Анализ методов контроля чистоты поверхности диэлектрических подложек 34
2.1.1 Метод спектроскопии многократно нарушенного полного внутреннего отражения 34
2.1.2 Метод измер ения контактной разности потенциалов 36
2.1.3 Методы контроля качества очистки по смачиваемости поверхности подложки 37
2.1.4 Трибометрический метод контроля 40
2.2 Модификация трибометрического прибора для измерения чистоты поверхности диэлектрических подложек 43
2.3 Исследование режимов работы и параметров трибометрического прибора контроля чистоты поверхности подложек диоксида кремния 54
2.4 Определение критерия оценки технологически чистой поверхности...64
2.5 Исследование процесса трибометрического воздействия подложки-зонда на структуру контролируемой поверхности 67
2.6 Методика контроля чистоты поверхности диэлектрических подложек трибометрическим методом 69
Глава 3 Разработка методики очистки поверхности диоксида кремния от органических загрязнений 72
3.1 Анализ методов очистки поверхности подложек 72
3.1.1 Химическая очистка 73
3.1.2 Лазерная очистка 75
3.1.3 Очистка с использованием низкотемпературной плазмы 76
3.2 Исследование механизмов формирования свойств поверхности 78
3.3 Анализ структуры молекулы органического загрязнения 83
3.4 Методика приготовления исходных образцов диоксида кремния с заданной степенью загрязнения 87
3.5 Исследование механизма очистки поверхности диоксида кремния в плазме высоковольтного газового разряда 93
3.6 Методика оценки остаточной концентрации органических загрязнений на поверхности диоксида кремния 97
3.7 Исследование зависимости остаточной концентрации органических загрязнений от физических факторов процесса очистки 101
3.8 Методика финишной очистки поверхности диоксида кремния в плазме высоковольтного газового разряда 107
Заключение 114
Список использованных источников 116
Приложение 136
