Введение
ГЛАВА 1 Процессы, обеспечивающие прочное сцепление покрытия с напыляемой поверхностью 9
1.1 Особенности формирования плазмонапыленных покрытий 9
1.2 Сцепление плазменных покрытий с напыляемой поверхностью 13
1.3 Методы активации напыляемой поверхности 15
1.4 Постановка задачи 17
ГЛАВА 2 Теоретические исследования активации поверхности основы газовыми разрядами в контролируемой атмосфере 19
2.1 Исследование влияния активации поверхности основы 19
дуговым разрядом в процессе плазменного напыления 19
на прочность сцепления покрытия 19
2.2 Плазмохимическая активация проволочных изделий 25
2.3 Общая характеристика обработки поверхности металлов 27
газовыми разрядами 27
2.4 Общая характеристика поверхностных загрязнени 33
2.5 Очистка поверхностей твердых тел от органических загрязнений в газовом разряде 34
2.6 Очистка поверхности от оксидной пленки газовыми разрядами 37
2.7 Выводы 39
ГЛАВА 3 Экспериментальные исследования активации газовыми разрядами напыляемой поверхности перед плазменным напылением 41
3.1 Экспериментальные исследования методов активации 41
3.3 Методика исследования подготовки поверхности перед напылением газовыми разрядами 58
3.4 Экспериментальные исследования характеристик порошковых материалов и режимов плазменного напыления на функциональные свойства композиционных покрытий различного состава 80
3.5 Выводы 94
ГЛАВА 4 Разработка технологии и автоматизированного оборудования для напыления покрытий на сетки электронных приборов 96
4.1 Совершенствование технологии плазменного напыления
антиэмиссионных и геттерных покрытий на сетки электронных приборов 96
4.2 Исследование газового выделения плазмонапыленных покрытий 103
4.3 Разработка автоматизированного оборудования для концентрации плазменных технологических операций в одной установ 105
4.4 Разработка кинематической схемы установки 106
для концентрации плазменных операций 106
4.4.1 Анализ процесса формирования плазмонапыленного покрытия 106
при случайном перемещении пятна напыления 106
4.4.2 Описание кинематической схемы установки для концентрации плазменных операций 111
4.5 Тепловой расчет рециркуляции газа в рабочей камере установки 113
4.6 Гидравлическая схема установки 133
4.7 Газовакуумная схема установки 134
4.8 Разработка конструкции установки для концентрации плазменных процессов 138
Заключение и выводы 143
Список литературы
